[发明专利]用于磁性粉体颗粒表面真空镀膜的装置及镀膜方法

权利要求书

1.一种用于磁性粉体表面真空镀膜的装置和方法，其特征在于：该装置包括真空室，励磁线圈或旋转磁场线圈，耐高温异形坩埚，磁控溅射靶架、溅射电源、蒸镀电源、样品台（可升降）、支撑辊、继电器、交流电源,其中，励磁线圈可以位于真空室外装置的顶端（如图1），也可位于真空室内的样品台的（如图2）四周，此时基盘为杯状。

2.图2中的磁场可以加为旋转磁场，相对应的为旋转磁场线圈，旋转磁场线圈如图4所示；根据真空镀膜的需要，可以设置多个对称的异形耐高温坩埚和磁控溅射靶架，二者可共同设置也可单独设置，若为共同设置，其平面相互位置如图3所示；真空室与真空抽气装置相连，真空室上设置观察窗和放气阀。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：真空室材料采用奥氏体不锈钢（304）或者没有磁性且耐压的材料构成。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：图1中，励磁线圈环绕柱形铁心设置，以增强所产生的磁场强度，且垂直处于样品台的上方，励磁线圈的中心线和样品台的中心线在竖直方向相重合，且励磁线圈水平投影在样品台的水平投影之内。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：图1和图2中，励磁线圈的电源采用220V，50Hz交流电，交流电与继电器相连，继电器的开启时间设置为0.5～3秒之间。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：励磁线圈采用耐高温漆包线，耐高温度数为大于等于200摄氏度；根据权利要求1所述的装置，其特征在于：励磁线圈的外径为0.50～0.90mm。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：图1中，异形坩埚外围切线AB、DE分别和样品台的顶边缘点C与底部边缘点E在一条直线上。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：图2中，样品台呈圆桶状，上部开口，下部有底盘。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：图2种，样品台周围具有励磁线圈或者旋转磁场线圈。

10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，包括如下磁性粉体颗粒表面真空镀膜方式：

图1是在真空中，开启励磁线圈，在继电器的作用下，磁性粉体颗粒（在一定的温度范围内没有失去磁性）就会随着交变磁场的变化而在真空室内的一定的空间范围内不断地升空、降落、翻转等，此时，进行真空蒸镀或者磁控溅射镀膜；

图2是在真空中，开启励磁线圈，在继电器的作用下，磁性粉体颗粒（在一定的温度范围内没有失去磁性）就会随着磁场的变化而做出响应，磁性粉体颗粒在磁场的作用下飞起、旋转、跌落等状态的变化，从而可以达到均匀镀膜的目的，当磁性粉体在镀膜状态具有较好的磁性时，可以采用连续镀膜或者间歇镀膜，当磁性粉体在高温下失去磁性或者磁性较弱时，采用间歇镀膜。