[发明专利]一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法

权利要求书

1.一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，包括如下步骤：

a)研磨：将切割好的金相试样的待腐蚀面进行研磨处理，所述金相试样为镍基合金；

b)抛光：将步骤a所得试样的待腐蚀面清洗、抛光；

c)腐蚀：将步骤b所得试样的待腐蚀面放入腐蚀液中腐蚀，所述腐蚀液包括过氧化氢、盐酸和甲醇；

d)清洁：将步骤c所得试样清洗、干燥，并观察试样的奥氏体晶界。

2.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述镍基合金的镍含量≥50wt％，铬≥10wt％，钼含量≥5wt％，铝+钛≥0.5wt％，铁≤20wt％，碳含量≤0.5wt％。

3.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述镍基合金为钴含量≥5wt％的镍基合金，进一步的，所述镍基合金为钴含量5～25wt％的镍基合金。

4.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述步骤a中，研磨处理的具体方法为：先使用砂轮对待腐蚀面进行打磨，再使用砂纸对待腐蚀面进行研磨。

5.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述步骤b中，清洗的具体方法为：用水对试样的待腐蚀面进行清洗。

6.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述步骤b中，抛光的具体方法为：使用抛光布对试样的待腐蚀面进行抛光，抛光剂采用2.0-3.0μm金刚石抛光膏，抛光过程中用水清洗碎屑。

7.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述步骤b中，抛光后进一步清洗并吹干试样的待腐蚀面。

8.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述步骤c中，所述腐蚀液中过氧化氢、盐酸和甲醇的体积比为5～15：80～120：200～400。

9.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述步骤c中，试样的待腐蚀面完全没入腐蚀液中，保持5～60min，然后取出试样。

10.如权利要求1所述的一种清晰显示镍基合金奥氏体晶界的金相腐蚀方法，其特征在于，所述步骤d中，先用水对试样进行清洗，再用酒精清洗并吹干，并在光学显微镜下观察试样的奥氏体晶界。