[发明专利]用于除去氧化物的清洗组合物及用清洗组合物的清洗方法

权利要求书

1.一种用于除去氧化物的清洗组合物，包括：

选自有机酸、无机酸、以及它们的组合的酸；

选自有机盐、无机盐、以及它们的组合的盐；

表面活性剂；以及

水。

2.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，基于100wt％的所述用于除去氧化物的清洗组合物，所述酸的量在0.1wt％至50wt％的范围内，所述盐的量在0.1wt％至35wt％的范围内，所述表面活性剂的量在0.1wt％至15wt％的范围内，并且剩余物是水。

3.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，基于100wt％的所述用于除去氧化物的清洗组合物，所述酸的量在0.1wt％至35wt％的范围内，所述盐的量在0.1wt％至20wt％的范围内，所述表面活性剂的量在0.1wt％至3wt％的范围内，并且剩余物是水。

4.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，所述酸是有机酸。

5.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，所述酸是无机酸。

6.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，所述有机酸包括选自下述中的至少一种羧酸：乙酸、甲酸、丙酸、丁酸、异丁酸、戊酸、乙基甲基乙酸、三甲基乙酸、琥珀酸、己二酸、柠檬酸、草酸、乳酸、酒石酸、苹果酸、抗坏血酸、以及丙二酸。

7.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，所述无机酸包括选自下述中的至少一种酸：硫酸、盐酸、磷酸、硝酸、以及高氯酸。

8.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，所述盐包括选自无机盐和有机盐中的至少一种盐，所述无机盐包括硫酸盐、磷酸盐、盐酸盐、以及硝酸盐中的至少一种；所述有机盐包括羧酸盐和磺酸盐中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，所述盐包括选自下述中的至少一种盐：

无机盐，所述无机盐包括硫酸钠、硫酸钾、硫酸镁、以及硫酸铵中的至少一种；以及

有机盐，所述有机盐包括乙酸钠、乙酸钾、柠檬酸钠、以及柠檬酸钾中的至少一种。

10.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，所述表面活性剂包括选自下述中的至少一种表面活性剂：

阴离子型表面活性剂，所述阴离子型表面活性剂包括烷基硫酸盐、烷基醚硫酸盐、烷基磺酸盐、烷基醚磺酸盐、烷基磷酸盐、烷基醚磷酸盐、烷基碳酸盐、以及烷基醚碳酸盐中的至少一种；以及

非离子型表面活性剂，所述非离子型表面活性剂包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯烷基酚醚、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸酯、以及蔗糖脂肪酸酯中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中，所述清洗组合物能够减少选自下述中的金属的至少一种氧化物：铁、钴、铬、锰、镍、钛、钼、不锈钢SUS合金、因科镍合金、科瓦合金、以及因瓦合金。

12.一种清洗方法，所述方法包括：

制备包括氧化物的掩模基底材料；以及

通过使根据权利要求1所述的清洗组合物与所述掩模基底材料接触进行第一次清洗。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述掩模基底材料包括选自下述中的至少一种金属：Fe、Co、Cr、Mn、Ni、Ti、Mo、不锈钢SUS合金、因科镍合金、科瓦合金、以及因瓦合金。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，响应于利用激光照射所述掩模基底材料而自然地形成所述氧化物。

15.根据权利要求12所述的方法，其中，所述第一次清洗包括通过使用喷射法、旋涂法、或者浸渍法使所述清洗组合物与所述掩模基底材料接触。

16.根据权利要求12所述的方法，其中，所述第一次清洗包括在10℃至50℃的温度范围内使用浸渍法60分钟至1440分钟。

17.根据权利要求12所述的方法，进一步包括在完成所述第一次清洗之后下述中的至少一种：

通过使用包括第一醇、表面活性剂、以及水的清洗混合物进行第二次清洗；

通过使用蒸馏水进行第三次清洗；以及

通过使用第二醇进行第四次清洗。