[发明专利]摄影光学系统有效

专利信息
申请号: 201510991011.5 申请日: 2015-12-24
公开(公告)号: CN105676422B 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 石荣宝 申请(专利权)人: 瑞声声学科技(苏州)有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 透镜 焦距 摄影光学系统 负光焦度 大相对孔径 低照度环境 成像清晰 成像性能 光学材料 同轴设置 光焦度 物侧面 面型 凸面 物侧 像侧 分配 优化
【权利要求书】:

1.一种摄影光学系统,其特征在于,从物侧至像侧依次为:同轴设置第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜及第七透镜,所述第一透镜具有负光焦度的且物侧面为凸面,所述第七透镜具有负光焦度,且满足以下条件式(1)~(7):

-1.5﹤f1/f﹤-0.5…(1)

1.0﹤f2/f﹤2.5…(2)

0.5﹤f3/f﹤1.5…(3)

-2.5﹤f4/f﹤-0.5…(4)

-10﹤f5/f﹤-2…(5)

0.2﹤f6/f﹤1.2…(6)

-2.5﹤f7/f﹤-0.4…(7)

其中,f1:第一透镜的焦距,f2:第二透镜的焦距,f3:第三透镜的焦距,f4:第四透镜的焦距,f5:第五透镜的焦距,f6:第六透镜的焦距,f7:第七透镜的焦距,f:整个所述摄影光学系统的焦距。

2.根据权利要求1所述的摄影光学系统,其特征在于,所述摄影光学系统还满足以条件式:

-5mm﹤f1﹤-1mm,1.50﹤n1﹤1.55,40﹤v1﹤60;

2mm﹤f2﹤6mm,1.50﹤n2﹤1.55,40﹤v2﹤60;

2mm﹤f3﹤5mm,1.50﹤n3﹤1.55,40﹤v3﹤60;

-10mm﹤f4﹤-2mm,1.60﹤n4﹤1.70,15﹤v4﹤30;

-30mm﹤f5﹤-10mm,1.60﹤n5﹤1.70,15﹤v5﹤30;

1mm﹤f6﹤5mm,1.50﹤n6﹤1.55,40﹤v6﹤60;

-5mm﹤f7﹤-2mm,1.50﹤n7﹤1.55,40﹤v7﹤60;

其中,

f1:第一透镜的焦距,n1:第一透镜的折射率,v1:第一透镜的阿贝数;

f2:第二透镜的焦距,n2:第二透镜的折射率,v2:第二透镜的阿贝数;

f3:第三透镜的焦距,n3:第三透镜的折射率,v3:第三透镜的阿贝数;

f4:第四透镜的焦距,n4:第四透镜的折射率,v4:第四透镜的阿贝数;

f5:第五透镜的焦距,n5:第五透镜的折射率,v5:第五透镜的阿贝数;

f6:第六透镜的焦距,n6:第六透镜的折射率,v6:第六透镜的阿贝数;

f7:第七透镜的焦距,n7:第七透镜的折射率,v7:第七透镜的阿贝数。

3.根据权利要求2所述的摄影光学系统,其特征在于,所述第一透镜和所述第二透镜近似为无光焦度镜组,能够合理矫正球差,且不会引入色差和场曲,满足以下条件式:

f1-2>60mm或者f1-2<-50mm;

其中,f1-2:第一透镜和第二透镜的组合焦距。

4.根据权利要求1所述的摄影光学系统,其特征在于,所述摄影光学系统的焦距与系统光学总长之比,满足以下条件式:

f/TTL>0.65

其中,TTL:从所述第一透镜的物侧面到成像面的距离。

5.根据权利要求1所述的摄影光学系统,其特征在于,所述第四透镜和第五透镜采用高折射率、低阿贝数材料,能够合理校正系统色差,第四透镜满足关系式1.60﹤n4﹤1.70,15﹤v4﹤30,第五透镜满足关系式1.60﹤n5﹤1.70,15﹤v5﹤30

其中,

n4:第四透镜的焦距,v4:第四透镜的阿贝数;

n5:第五透镜的焦距,v5:第五透镜的阿贝数。

6.根据权利要求1所述的摄影光学系统,其特征在于,所述第七透镜为负透镜,能够有效减小系统场曲,所述第七透镜满足条件式-5mm﹤f7﹤-2mm。

7.根据权利要求2所述的摄影光学系统,其特征在于,所述摄影光学系统还满足以下条件式:

TTL﹤5.4mm;

78°﹤FOV﹤88°;

其中,TTL:所述第一透镜的物侧面到像面的距离;FOV:所述摄影光学系统拍摄到的最大视角范围。

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