[发明专利]一种用于厚膜光刻胶的高容量显影液组合物在审
| 申请号： | 201510996583.2 | 申请日： | 2015-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105589303A | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | 马丽丽;黄巍;顾奇 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 容量 显影液 组合 | ||
1.一种厚膜光刻胶显影液组合物，其特征在于该组合物同时含有 KOH或者Na2SiO31％～10％，显影缓冲剂偏硼酸钾1％～4％，显影加 速剂0.1％～2％，炔二醇表面活性剂SF-4400.01％～0.05％，醚改性硅 氧烷消泡剂0.005％～1％。
2.如权利要求1所述的一种厚膜光刻胶显影液组合物，其特征在于： 所述显影缓冲剂偏硼酸钾含量为1％～4％。
3.如权利要求1所述的一种光刻胶显影液组合物，其特征在于：所 述显影加速剂为醇醚、亚砜及吡咯等杂环类水溶性有机溶剂，醇醚类有 二甘醇单乙醚、二甘醇单丁醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇甲醚等。亚砜 有环丁砜、二甲基亚砜、二苯基亚砜等。吡咯有α-吡咯烷酮、乙烯基 吡咯烷酮、N-羟乙基哌嗪等。以上显影液组合物各组分为以上一种或为 上述两种物质任意比例的混合物。
4.如权利要求1所述的一种光刻胶显影液组合物，其特征在于：所 述显影加速剂优选为DGME，含量为1％～4％。
5.如权利要求1所述的一种厚膜光刻胶显影液组合物，其特征在于： 所述炔二醇表面活性剂SF-440质量百分比为1％～10％。
6.如权利要求1所述的一种光刻胶显影液组合物，其特征在于：所 述消泡剂选自空气化工SurfynolDF-58、SurfynolDF-62、SurfynolDF-66、 SurfynolDF-695、SurfynolDF-178的一种或两种，其添加量为显影液总 量的0.005％～1％。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州瑞红电子化学品有限公司，未经苏州瑞红电子化学品有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510996583.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
