[发明专利]一种晶圆对准检测方法及系统有效
申请号: | 201510996708.1 | 申请日: | 2015-12-28 |
公开(公告)号: | CN105609458B | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 刘国敬;张文斌;高岳 | 申请(专利权)人: | 北京中电科电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/67 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;安利霞 |
地址: | 100176 北京市经*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 对准 检测 方法 系统 | ||
1.一种晶圆对准检测方法,其特征在于,包括:
对位于工作台上的晶圆进行第一对准,得到晶圆的第一旋转角度,并将晶圆按照第一旋转角度进行旋转;
对经过旋转后的晶圆进行第二对准,得到晶圆的第二旋转角度,并将晶圆按照第二旋转角度进行旋转,使得旋转后的晶圆的划切槽与工作台的X轴平行;
其中,所述对位于工作台上的晶圆进行第一对准,得到晶圆的第一旋转角度,并将晶圆按照第一旋转角度进行旋转的步骤具体为:
在晶圆的正上方进行晶圆图像的采集,得到第一晶圆图像;
在所述第一晶圆图像中寻找与预先设定的扫正模板相匹配、且最接近于所述第一晶圆图像中心的第一匹配图像,得到所述第一匹配图像的中心在所述工作台上的第一坐标;
将工作台的中心移动到所述第一坐标所在的位置,并控制所述工作台沿与晶圆的划切槽相平行的方向移动第一预设距离;
进行晶圆图像的采集,得到第二晶圆图像;
在所述第二晶圆图像中寻找与所述扫正模板相匹配、且最接近于所述第二晶圆图像中心的第二匹配图像,得到所述第二匹配图像的中心在所述工作台上的第二坐标;
将工作台的中心移动到所述第二坐标所在的位置;
根据所述第一坐标和所述第二坐标,得到所述晶圆的第一旋转角度;
控制晶圆按照第一旋转角度进行旋转。
2.根据权利要求1所述的晶圆对准检测方法,其特征在于,所述第一预设距离依据公式:d1=n×晶圆上的管芯的直径,计算得到;
其中,d1表示第一预设距离,n表示管芯的个数。
3.根据权利要求1所述的晶圆对准检测方法,其特征在于,所述根据所述第一坐标和所述第二坐标,得到所述晶圆的第一旋转角度的步骤具体为:
根据公式:得到第一旋转角度;其中,θ为第一旋转角度,第一坐标为(x1,y1),第二坐标为(x2,y2),π为圆周率。
4.根据权利要求1所述的晶圆对准检测方法,其特征在于,所述对位于工作台上的晶圆进行第一对准,得到晶圆的第一旋转角度,并将晶圆按照第一旋转角度进行旋转的步骤还包括:
若所述第一晶圆图像中不存在与所述扫正模板相匹配的图像,则利用八领域算法,重新采集晶圆图像,直到确定新采集的晶圆图像中包含与所述扫正模板相匹配的图像时,将新采集的图像替换所述第一晶圆图像,作为新的第一晶圆图像。
5.根据权利要求1所述的晶圆对准检测方法,其特征在于,所述对位于工作台上的晶圆进行第一对准,得到晶圆的第一旋转角度,并将晶圆按照第一旋转角度进行旋转的步骤还包括:
若所述第二晶圆图像中不存在与所述扫正模板相匹配的图像,则利用八领域算法,重新采集晶圆图像,直到确定新采集的晶圆图像中包含与所述扫正模板相匹配的图像时,将新采集的图像替换所述第二晶圆图像,作为新的第二晶圆图像。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中电科电子装备有限公司,未经北京中电科电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510996708.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造