[发明专利]电磁兼容性良好的光电直读远传干式水表在审

专利信息
申请号: 201511002275.X 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN105424129A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 孟勇 申请(专利权)人: 成都兴联宜科技有限公司
主分类号: G01F15/14 分类号: G01F15/14
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人: 袁英
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 电磁 兼容性 良好 光电 直读 远传干式 水表
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光电直读水表,特别是涉及一种电磁兼容性良好的光电直读远传干式水表。

背景技术

光电直读水表是在普通水表的计数器字轮印刷0-9位置的外缘印刷特定标记,在其外围固定光电传感器及相关电路。外部供电读表时,通过光电传感器判断特定标记“有”和“无”的状态。光电直读远传水表通过对字轮建立数学模型,经过组合计算,从中求出唯一正确的解,然后再在字轮0-9的相应位置上按照数学规律印刷特定的标记,在其周围按照数学规律再安装固定光电传感器,这样就把一个数学问题通过电子电路方法来实现。同时考虑各种冗错、纠错的算法,就可以得出唯一正确的解——即字轮上的唯一数据。目前采用这种方式的直读表主要有光电对射(透射)式和光电反射式两种,主要的区别在于机械结构和数学算法的不同。光电对射(透射)式技术只能应用于干式水表,而光电反射式技术不仅可以应用于干式水表,而且可以应用于液封式水表。

干式水表的计数器不浸入水中,结构上传感器与计数器的室腔相隔离,水表玻璃不受水压,传感器与计数器的传动一般用磁钢传动。干式水表与湿式水表的最大区别在于计量机构,其叶轮与中心齿轮相分离,叶轮上端由磁性元件(磁环或柱状磁钢)与中心齿轮下端的磁性元件相耦合。当水流推动叶轮旋转时,通过叶轮上端的磁性元件与中心齿轮下端的磁性元件相吸或相斥,驱动中心齿轮同步旋转,并由中心传动计数器记录流经水表的水量。干式水表的优点在于:干式水表因其计数机构与被测水隔绝,故不受水中悬浮杂质的影响,确保计数机构的正常工作和读数的清晰,同时也不会像湿式水表那样,因表内外温差而造成玻璃下方起雾或凝结水珠等影响水表抄读的现象。

然而,传统光电直读远传干式水表电磁兼容性能差,容易因电磁干扰造成水表模组的读数误差甚至故障。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种电磁兼容性良好的光电直读远传干式水表,符合EMC、ESD、EMI等电子产品电磁兼容方面技术要求。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:电磁兼容性良好的光电直读远传干式水表,包括内屏蔽壳和外屏蔽壳,内屏蔽壳设置于水表模组和外屏蔽壳之间,内屏蔽壳和外屏蔽壳上分别均匀设置有多个圆形通风口,所述圆形通风口的直径小于预设电磁波的波长阈值。

所述的内屏蔽壳依次由第一离型材料层、第一胶粘层和导电布层叠组成,导电布设置于靠近水表模组的一侧;所述的外屏蔽壳依次由第二离型材料层、第二胶粘层和绝缘布层叠组成,第二离型材料层设置于靠近内屏蔽壳的一侧,绝缘布设置于外层。

本发明的有益效果是:

1)在保证通风散热性能的基础上,本发明通过外屏蔽壳绝缘布吸收外界电磁波,外界电磁波不能进入,通过内屏蔽壳导电布反射水表模组产生的电磁波,内部电磁波不能向外辐射,具有良好的电磁兼容屏蔽功能。符合EMC、ESD、EMI等电子产品电磁兼容方面技术要求,处行业领先水平。

2)外屏蔽壳与内屏蔽壳之间均布置有离型材料层,可防止外屏蔽壳及内屏蔽壳预浸料粘连,又可以保护预浸料不受污染,同时可避免灰尘吸附。

附图说明

图1为本发明结构示意图;

图2为本发明内外屏蔽壳分层结构示意图;

图中,1-内屏蔽壳,2-外屏蔽壳,3-圆形通风口,4-水表模组,5-第一离型材料层,6-第一胶粘层,7-导电布,8-第二离型材料层,9-第二胶粘层,10-绝缘布。

具体实施方式

下面结合附图进一步详细描述本发明的技术方案,但本发明的保护范围不局限于以下所述。

如图1所示,电磁兼容性良好的光电直读远传干式水表,包括内屏蔽壳1和外屏蔽壳2,内屏蔽壳1设置于水表模组4和外屏蔽壳2之间,内屏蔽壳1和外屏蔽壳2上分别均匀设置有多个圆形通风口3,所述圆形通风口3的直径小于预设电磁波的波长阈值。

如图2所示,所述的内屏蔽壳1依次由第一离型材料层5、第一胶粘层6和导电布7层叠组成,导电布7设置于靠近水表模组4的一侧;所述的外屏蔽壳2依次由第二离型材料层8、第二胶粘层9和绝缘布10层叠组成,第二离型材料层8设置于靠近内屏蔽壳1的一侧,绝缘布10设置于外层。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围,则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。

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