[发明专利]一种可见光/红外波段纳米光学吸收涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201511005884.0 | 申请日： | 2015-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105506554B | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 金立川;张怀武;方觉;张岱南;钟智勇;廖宇龙;白飞明 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/35;C23C14/24;H01L31/0216 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 吴姗霖 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 半导体光学 可见光 金属基板 涂层薄膜 红外波段 纳米光学 吸收涂层 制备 材料技术领域 分子束外延法 高反射率金属 光电响应特性 物理气相沉积 磁控溅射法 光电探测器 太阳能电池 光学镜片 光学吸收 截止波长 热蒸发法 制备工艺 生长 等真空 波长 基板 覆盖 应用 | ||
1.一种可见光/红外波段纳米光学吸收涂层，由金属基板及生长于金属基板上的半导体光学涂层薄膜构成，所述金属基板为可见光/红外高反射率金属基板，所述半导体光学涂层薄膜的厚度为10nm～60nm；
所述可见光/红外高反射率金属基板的表面粗糙度为1nm以下；
所述可见光/红外波段纳米光学吸收涂层的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：选择可见光/红外高反射率柔性金属基板，分别采用乙醇、去离子水清洗，吹干；
步骤2：在步骤1清洗吹干后的可见光/红外高反射率柔性金属基板上制备10～60nm厚的锗锡合金薄膜；具体过程为：在10-8Torr以下的真空环境下，将可见光/红外高反射率柔性金属基板在200～400℃下处理30min～1h，以去除基板表面的附着气体，降温至室温；保持10-8Torr以下的真空环境，将锗源升温至1000～1200℃，锡源升温至1000～1200℃，金属基板升温至100～250℃；打开锗源、锡源和基片挡板，采用分子束外延法在金属基板表面生长锗锡合金薄膜；
所述锗源和锡源的升温速率为7℃/min，金属基板的升温速率为1℃/min。
2.根据权利要求1所述的可见光/红外波段纳米光学吸收涂层，其特征在于，所述可见光/红外高反射率金属基板为铝箔、铜箔或金箔。
3.一种可见光/红外波段纳米光学吸收涂层的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：选择可见光/红外高反射率柔性金属基板，分别采用乙醇、去离子水清洗，吹干；
步骤2：在步骤1清洗吹干后的可见光/红外高反射率柔性金属基板上制备10～60nm厚的锗锡合金薄膜；具体过程为：在10-8Torr以下的真空环境下，将可见光/红外高反射率柔性金属基板在200～400℃下处理30min～1h，以去除基板表面的附着气体，降温至室温；保持10-8Torr以下的真空环境，将锗源升温至1000～1200℃，锡源升温至1000～1200℃，金属基板升温至100～250℃；打开锗源、锡源和基片挡板，采用分子束外延法在金属基板表面生长锗锡合金薄膜。
4.根据权利要求3所述的可见光/红外波段纳米光学吸收涂层的制备方法，其特征在于，所述锗源和锡源以体积百分比计纯度不低于99.99％。
5.根据权利要求3所述的可见光/红外波段纳米光学吸收涂层的制备方法，其特征在于，所述锗源和锡源的升温速率为7℃/min，金属基板的升温速率为1℃/min。
6.根据权利要求3所述的可见光/红外波段纳米光学吸收涂层的制备方法，其特征在于，所述可见光/红外高反射率柔性金属基板为铝箔、铜箔或金箔，表面粗糙度为1nm以下。
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