[发明专利]一种手机纳米防水膜的制备方法

权利要求书

1.一种手机纳米防水膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

手机前处理：

a、用美纹纸将手机内部不需要镀膜的元器件遮盖封闭；

b、拆开手机内部的静电胶纸；

c、用清洗剂对待镀膜表面进行清洗、清除表面灰尘及残余油污；

d、清洗后将手机放入干燥箱烘干残余水分；

镀膜处理：

1)将待镀膜手机放入真空镀膜室，加热并抽真空；

2)将镀膜原材料放入蒸发室，继续抽真空，原材料加热升华；

3)连通蒸发室与裂解室，镀膜原材料进入裂解室裂解成活性单体；

4)活性单体进入真空镀膜室，最后沉积在手机待镀膜表面，得到防水膜层；

5)镀膜完成后降温，裂解室抽真空，镀膜室放气，取出手机镀膜产品；

镀膜后处理：

①拆除贴覆在遮蔽元器件上的美纹纸；

②清除铜片间的防水膜层；

所述步骤2)中镀膜原材料为聚对二甲苯类型粉体，聚对二甲苯类型粉体包括有N粉、C粉和D粉，所述N粉、C粉和D粉的重量比为1：3：2，采用的镀膜原料粉体的颗粒粒径为30-70nm。

2.根据权利要求1所述的一种手机纳米防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤c中的清洗剂为无水乙醇和NY-120号汽油按照体积比8:3混合的混合清洗剂。

3.根据权利要求1所述的一种手机纳米防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤d中的烘干温度为35-40℃，烘干时间为20-25min。

4.根据权利要求1所述的一种手机纳米防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤2)中的升华温度为120℃-125℃，蒸发室压力为20-30Pa。

5.根据权利要求1所述的一种手机纳米防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤3)中的裂解温度为685℃-690℃，裂解室压力为8-10Pa。

6.根据权利要求1所述的一种手机纳米防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤4)中的待镀膜的手机温度为25℃-30℃，镀膜压力为7-7.5Pa。

7.根据权利要求1所述的一种手机纳米防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤4)中的防水膜层的厚度为10-15μm。