[发明专利]一种全自动表面处理机

说明书

技术领域

本发明属于自动化设备控制领域，尤其涉及一种对样品进行表面处理的全自动表面处理机。

背景技术

对样品进行表面清洁、预处理等工艺，广泛应用于半导体、光伏和电子产品等行业。对样品表面清洁，去除有机杂质，有利于确保产品质量，提高产品性能；对样品表面进行预处理，是为下一步生产工艺做好准备，有利于提高下一步工艺的成品率、产品性能等。

目前，对于产品表面清洁的方法有溶液清洁、紫外线清洁、臭氧清洁和等离子体清洁等。等离子体清洁与其他清洁方式相比，由于其清洁速度快、便于自动化等优点，更适用于自动化设备。旋涂工艺由于其对预处理材料的广泛适用、成本低廉、便于操作等优点，使其便于与自动化设备集成。此外，目前对于样品的表面清洁和预处理，通常被划分为不同的工艺，分步、分设备进行。这不仅会造成样品表面容易造成二次污染，而且耗费场地，不利于集约化、高效率生产。

发明内容

鉴于现有技术中存在的上述缺陷，本发明所要解决的技术问题在于提供一种集等离子体清洁和表面旋涂预处理功能于一身、自动上料、自动下料的全自动表面处理机。

为了解决上述技术问题，本发明所提供的一种全自动表面处理机，包括：设备平台；设置于所述设备平台上的样品支架、样品等离子清洗台、样品旋涂台、及样品下料机构；用于对载置于所述样品等离子清洗台上的样品进行清洗的等离子清洗机构；用于对载置于所述样品旋涂台上的样品进行旋涂表面处理的旋涂滴胶机构；和配置为将载置于所述样品支架上的样品依次输送至所述样品等离子清洗台、样品旋涂台、及样品下料机构的机械手。

根据本发明，使用本全自动表面处理机时，样品的等离子体清洁和表面旋涂预处理工艺可在同一设备上连续完成，且样品可自动上料，下料，避免了分步进行带来的样品二次污染问题，且自动化程度高，操作高效便捷。且所述设备平台用于固定、支撑全自动表面处理机的各部分机构。

又，在本发明中，所述样品支架的数量可为一个或多个。

根据本发明，一个或多个所述样品支架可用于放置一个或多个待表面处理的样品，有利于高效率生产。

所述样品等离子清洗台在水平方向移动，且所述样品等离子清洗台的中央设有用于吸附所述样品的真空吸孔。

根据本发明，所述样品等离子清洗台可在水平方向移动，移动速度可控；所述样品等离子清洗台中央还可设置真空吸孔，用于等离子清洗过程中将样品吸牢，防止样品坠落。

又，在本发明中，也可以是，所述等离子清洗机构包括等离子枪、等离子枪水平支架和等离子枪垂直支架；所述等离子枪水平支架通过伸缩方式使所述等离子枪在水平方向移动；所述等离子枪的移动方向与所述样品等离子清洗台的移动方向垂直。

根据本发明，所述等离子清洗机构，由等离子枪、等离子枪水平支架和等离子枪垂直支架组成；等离子枪水平支架可通过伸缩方式使等离子枪在水平方向移动，移动速度可控；等离子枪移动方向与样品等离子清洗台移动方向垂直。从而确保样品整个表面得到清洗。

所述样品旋涂台通过其中央的真空吸孔将样品吸牢后，带动所述样品绕所述样品旋涂台的垂直方向的轴旋转。

根据本发明，样品旋涂台可用于支撑待处理样品，旋涂台真空吸孔可通过抽真空方式产生负压，将样品吸牢。

所述旋涂滴胶机构包括滴胶头、滴胶头水平支架和滴胶头垂直支架；所述滴胶头水平支架通过伸缩方式使所述滴胶头在水平方向移动；所述滴胶头垂直支架沿垂直方向伸缩。

根据本发明，所述旋涂滴胶机构，由滴胶头、滴胶头水平支架和滴胶头垂直支架组成；所述滴胶头水平支架可通过伸缩方式使滴胶头在水平方向移动，移动速度可控；滴胶头垂直支架可沿垂直方向伸缩；从而有利于进行旋涂表面处理。

又，在本发明中，也可以是，所述样品下料机构包括下料台和安装于所述下料台上的传送带。

根据本发明，所述的样品下料机构由下料台和安装于下料台上的传送带组成。完成旋涂工序后的样品，由机械手转移至样品下料机构，将完成表面处理工艺的样品传送至下一工序。

又，在本发明中，也可以是，所述机械手包括机械手抓头、机械手抓头水平支架和机械手抓头垂直支架，所述机械手抓头水平支架通过伸缩方式使所述机械手沿水平方向移动；所述机械手垂直支架绕其自身垂直方向的轴旋转，并沿垂直方向伸缩。