[发明专利]一种烤架在审

专利信息
申请号: 201511016050.X 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN105420477A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 钟运国 申请(专利权)人: 重庆迪斯步特摩擦材料有限公司江津分公司
主分类号: C21D9/00 分类号: C21D9/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 吴开磊
地址: 400000 重庆*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 一种 烤架
【权利要求书】:

1.一种烤架,其特征在于,包括底座、多个第一烤盘和多个第二烤盘、以及垂直连接于所述底座的立柱,每个所述第一烤盘和每个所述第二烤盘均为矩形,

所述多个第一烤盘均固定连接于所述立柱并且与所述底座相互平行,所述多个第一烤盘沿所述立柱的长度方向的投影均落于所述底座内且彼此重合,每两个相邻的所述第一烤盘彼此间隔开第一距离,每个所述第一烤盘与所述立柱连接的部位位于该第一烤盘的第一侧边的中央,

所述多个第二烤盘均转动连接于所述立柱并且与所述底座相互平行,所述多个第一烤盘和所述多个第二烤盘沿所述立柱的长度方向交替布置并且距离所述底座最远和最近的烤盘均为所述第一烤盘,每个所述第二烤盘至与其相邻的两个第一烤盘的垂直距离相等,每个所述第二烤盘与所述立柱连接的部位位于该第二烤盘的第二侧边的中央,

其中,所述多个第二烤盘均围绕所述立柱转动到所述立柱与所述第一烤盘相反的一侧时,所述烤架处于展开状态,所述多个第二烤盘均围绕所述立柱转动到所述立柱与所述第一烤盘相同的一侧时,所述烤架处于叠合状态。

2.根据权利要求1所述的烤架,其特征在于,所述立柱上针对每个所述第二烤盘设置有限位部件,所述限位部件用于限制与该限位部件对应的第二烤盘相对于该第二烤盘的第一位置具有仅180度的转动范围,其中所述第一位置为该第二烤盘处于所述立柱与所述第一烤盘相同的一侧且该第二烤盘的第二侧边平行于所述第一烤盘的第一侧边时的位置。

3.根据权利要求2所述的烤架,其特征在于,所述限位部件为设置于所述立柱上沿所述立柱的长度方向延伸的挡块,所述挡块在所述立柱的长度方向上的两端分别固定在所述立柱用于与所述第二烤盘连接的部位的两侧,所述立柱具有垂直于所述第一侧边的中轴面,每个所述挡块位于所述立柱以所述中轴面对称的两侧中的任一侧,并且沿所述第一烤盘的第一侧边的任一相邻侧边延伸的方向,每个所述挡块的两端分别与所述立柱的两端齐平。

4.根据权利要求1所述的烤架,其特征在于,每两个相邻的所述第一烤盘通过平行于所述立柱的第一支腿固定连接,每个所述第一烤盘与对应第一支腿连接的部位位于该第一烤盘的第三侧边的中央,所述第三侧边与所述第一侧边彼此相对,所述多个第一烤盘中距离所述底座最近的第一烤盘通过平行于所述立柱的第二支腿固定连接至所述底座。

5.根据权利要求4所述的烤架,其特征在于,每个所述第二烤盘的尺寸小于每个所述第一烤盘的尺寸,每个所述第二烤盘在其与所述第二侧边相对的第四侧边的中央位置处设置有向外凸出的凸块,每个所述第一支腿设置有用于容置所述凸块的容置槽。

6.根据权利要求5所述的烤架,其特征在于,每个所述容置槽内设置有磁铁元件,每个所述凸块由磁性金属制成。

7.根据权利要求1所述的烤架,其特征在于,所述立柱用于与每个所述第二烤盘连接的部位设置有环形凹槽,每个所述第二烤盘用于与所述立柱连接的部位设置有与所述环形凹槽相咬合的环形凸带,每个所述第二烤盘通过所述环形凸带围绕所述环形凹槽转动而相对于所述立柱转动。

8.根据权利要求1所述的烤架,其特征在于,所述立柱用于与每个所述第二烤盘连接的部位设置有环形凹槽,每个所述第二烤盘用于与所述立柱连接的部位设置有套设于所述环形凹槽的滚珠轴套,所述滚珠轴套中的滚珠与所述环形凹槽的内槽面紧密接触。

9.根据权利要求1所述的烤架,其特征在于,每个所述第二烤盘与所述第二侧边相邻的两个侧边分别设置有一个可伸缩支撑腿,每个所述可伸缩支撑腿枢接于对应侧边上远离所述立柱的端部处且位于对应第二烤盘朝向所述底座的一侧。

10.根据权利要求1所述的烤架,其特征在于,每个所述第一烤盘和每个所述第二烤盘用于放置烘烤物品的区域均为网面结构。

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