[发明专利]直下式导光结构、直下式导光板及直下式背光模块有效
申请号: | 201511016163.X | 申请日: | 2015-12-29 |
公开(公告)号: | CN105759336B | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 陈晏佐;林韦呈 | 申请(专利权)人: | 颖台科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00;F21V8/00;F21S8/00;F21Y115/10 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 直下式导光 结构 直下式 导光板 背光 模块 | ||
1.一种直下式导光结构,设置于一直下式背光模块的一导光板上,该导光板具有一出光面以及与该出光面相对的一入光面,于该导光板上定义有两两相互垂直的X、Y及Z轴方向,其中,该导光板的厚度方向沿该Z轴方向延伸,该X轴方向及该Y轴方向分别在该入光面上延伸;该背光模块具有至少一点光源,该至少一点光源与该入光面位于同一侧;其特征在于,该直下式导光结构包括:
至少一凹槽结构,其设于该导光板的该出光面,且各个该点光源的位置分别对应于一个该凹槽结构,使该点光源朝着该凹槽结构发出光线;
其中,各个该凹槽结构均具有一中心凹点,使其所对应的该点光源位于该中心凹点的正下方;该中心凹点与该出光面相对位置间为连续轮廓;
其中,于沿着该Y轴方向剖切穿过该导光板的该中心凹点的一剖面方向上的该凹槽结构的轮廓通过下列方程式来表现:
方程式一:Z1(y)=z01-a1*exp(-|y|/t1),-r01<y<0;
方程式二:Z2(y)=z02-a2*exp(-|y|/t2),0<y<r02;
其中,z01、z02分别为该导光板的一侧边区和一主体区的最大厚度,该主体区位于+y方向,且该侧边区位于-y方向;a1、a2分别为该中心凹点相对于该侧边区与该主体区的最大深度;t1、t2分别为该凹槽结构的该轮廓的变化参数;r01、r02分别为该凹槽结构在该侧边区和该主体区的开口半径;Z1(y)定义了该凹槽结构在该侧边区的厚度变化也就是轮廓曲线,Z2(y)为该凹槽结构在该主体区的厚度变化也就是轮廓曲线,y为介于-r01至r02之间的实数;
其中,0.7≦t1≦1.4;0.7≦t2≦1.5;3mm≦z02<7mm;3mm<z01≦7mm;67%≦(a2/z02)<100%。
2.根据权利要求1所述的直下式导光结构,其特征在于,该凹槽结构为一不对称形凹槽结构,其中,z01>z02;3.5mm≦z01≦7mm。
3.根据权利要求2所述的直下式导光结构,其特征在于,该至少一点光源的数量至少为两个,该至少一点光源集中设置在该导光板的该入光面的下方且邻近于该导光板其中一旁侧边处;并且,该至少一点光源沿着该旁侧边平均分布于点导光板的该入光面邻近该旁侧边处的下方;其中,该剖面方向与该旁侧边以及该出光面均相互垂直。
4.根据权利要求3所述的直下式导光结构,其特征在于,在设置有该至少一点光源的该旁侧边的侧面处还设置有一反射片,通过该反射片将该至少一点光源朝该反射片发射的光线全反射回该导光板中。
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