[发明专利]一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物，其特征在于，包括 以下组分及其重量百分含量：

上述各组成的重量百分含量之和为100％；

所述液体萃取剂为水、六甲基二硅氧烷、六甲基二硅烷、三乙基硅烷、八 甲基环四硅氧烷和八甲基三硅氧烷中的至少一种。

2.如权利要求1所述的一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物， 其特征在于，所述苯乙烯基树脂为丙烯腈-丁二烯-苯乙烯接枝共聚物、丙烯腈 -丁二烯共聚物与橡胶的混合物、或丙烯腈-丁二烯-苯乙烯接枝共聚物与树脂 的合金。

3.如权利要求1所述的一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物， 其特征在于，所述树脂为聚碳酸酯。

4.如权利要求1所述的一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物， 其特征在于，所述耐热剂为α-甲基苯乙烯类耐热剂或氮苯基马来酰亚胺类聚 合物耐热剂。

5.如权利要求1所述的一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物， 其特征在于，所述增韧剂为甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯-丁苯橡胶增韧剂或聚丁二 烯橡胶增韧剂。

6.如权利要求1所述的一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物， 其特征在于，所述钛白粉为金红石型钛白粉。

7.如权利要求1所述的一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物， 其特征在于，所述遮光母粒中含有炭黑，所述炭黑重量占所述炭黑遮光母粒重 量的0.001％。

8.如权利要求1所述的一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物， 其特征在于，所述加工助剂包括抗氧剂、润滑剂和色粉中的至少一种。

9.一种如权利要求1所述的低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物 的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：按照以下组分及其重量百分比含量准备原材料：苯乙烯基树脂 51.5-90.5％，耐热剂0-20％，增韧剂0-10％，钛白粉8-15％，液体萃取剂1-2％， 遮光母粒0.5-0.7％，加工助剂0-0.8％；

步骤2：将上述原材料加入至高速混合机中混合；

步骤3：将步骤2中混合后的原材料加入至双螺杆挤出机，经双螺杆挤出 机挤出、冷却、切粒，获得最终的产品。产品在双螺杆挤出造粒生产过程中， 使用了两个真空口进行真空脱挥。

10.如权利要求9所述的一种低散发、超高遮光和高反光苯乙烯基组合物 的制备方法，其特征在于，所述双螺杆挤出机的直径为35mm，其长径比为36:1。