[发明专利]一种富含水的光阻残留物清洗液组合物在审
申请号: | 201511019286.9 | 申请日: | 2015-12-30 |
公开(公告)号: | CN106933067A | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 郑玢;刘兵;孙广胜;黄达辉 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京大成律师事务所11352 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 含水 残留物 清洗 组合 | ||
1.一种富含水的光阻残留物清洗液组合物,其特征在于,所述清洗液含有醇胺、水、溶剂、酚类化合物及表面活性剂。
2.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述醇胺为脂肪族的醇胺。
3.如权利要求2所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述脂肪族的醇胺为单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一种或几种。
4.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述醇胺含量为10-65wt%。
5.如权利要求4所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述醇胺含量为10-60wt%。
6.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其特征在于,所述水为去离子水,蒸馏水,超纯水的一种或几种。
7.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述水含量为20-60wt%。
8.如权利要求7所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述水含量为25-55wt%。
9.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其特征在于,所述溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或几种。
10.如权利要求9所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述亚砜为二甲基亚砜;所述砜为环丁砜;所述咪唑烷酮为1,3-二甲基-2-咪唑烷酮;所述吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮;所述咪唑啉酮为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI);所述酰胺为N,N-二甲基乙酰胺;所述醇醚类为二元醇醚。
11.如权利要求10所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述二元醇醚为乙二醇甲醚,乙二醇乙醚,乙二醇丁醚,二乙二醇甲醚,三乙二醇丁醚,丙二醇丁醚,丙二醇甲醚,二丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚和丙二醇丁醚中的一种或几种。
12.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述溶剂含量为10-50wt%。
13.如权利要求12所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述溶剂含量为10-40wt%。
14.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述酚类化合物为邻苯二酚、对苯二酚、间苯二酚、联苯三酚、3-甲基邻苯二酚、4-苯乙基-1,3-苯二酚、4-叔丁基邻苯二酚、1,8-蒽醌二酚、5-(羟甲基)-1,3-苯二酚、5-甲基连苯三酚、4-苯甲基焦酚、5-甲氧基邻苯三酚、5-叔丁基邻苯三酚、5-羟甲基邻苯三酚中的一种或几种。
15.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述酚类化合物含量为0.5-15wt%。
16.如权利要求15所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述酚类化合物含量为0.5-10wt%。
17.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述表面活性剂为聚乙二醇类、聚氧乙烯醚类表面活性剂。
18.如权利要求17所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述聚乙二醇类为PEG200、PEG400、PEG1000、PEG100MS的一种或几种;所述聚氧乙烯醚类为AEO-3、AEO-7、AEO-9、AEO-10、AEO-15、JFC、JFC-1、JFC-2、JFC-E、OP-4、OP-15、OP-30、NP-10、NP-21、TWEEN-20、TWEEN-65、TWEEN-80中的一种或几种。
19.如权利要求1所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述表面活性剂含量为0.1-3wt%。
20.如权利要求19所述的光阻残留物清洗液组合物,其中,所述表面活性剂 含量0.1-2wt%。
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