[发明专利]一种针对高反射物体的附着规则图案的光源装置有效

专利信息
申请号: 201511020111.X 申请日: 2015-12-28
公开(公告)号: CN105445197B 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 宋宇航;刘常杰;王仲;付鲁华;张恺;姜美华 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01N21/15 分类号: G01N21/15
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 杜文茹
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 针对 反射 物体 附着 规则 图案 光源 装置
【说明书】:

一种针对高反射物体的附着规则图案的光源装置,包括有顶部开有图像采集孔的光源罩和通过支架设置在图像采集孔上方的图像传感器,所述图像传感器的摄像头与所述的图像采集孔对应设置,还设置有在支撑所述光源罩的同时向光源罩提供光源并用于放置被测物体的发光底盘,所述光源罩的内侧壁上均匀涂有一层具有漫反射特性的单色涂层,所述单色涂层上涂有规则排列的具有漫反射特性的图案层。本发明的一种针对高反射物体的附着规则图案的光源装置,可以在光源作用范围内的高反射物体表面形成规则图案的像,进而可达到表面修饰、缺陷检测等目的。

技术领域

本发明涉及一种附着规则图案的光源装置。特别是涉及一种针对高反射物体的附着规则图案的光源装置。

背景技术

所述高反射物体定义为表面对于光线的反射率等于1或接近于1的物体,即物体表面具有镜面反射特性或近似于镜面反射特性。在实际工业生产中,这类物体包括平板玻璃、金属薄膜、钢球、陶瓷球等多种类型的产品。

对高反射物体进行图像采集时,若使用光源直接照明,则高反射物体表面会形成光源的像,从而使高反射物体表面的信息被湮没。因此,研究针对高反射物体的光源装置具有实际意义。

申请号为201520030580.9的专利中公开了一种图案投影灯。该装置包括顶盖和底座,顶盖扣合在底座上,底座上设置有投影台,底座的投影台内设置有光源,在投影台上设置有可手绘图案的透明载片。光源发出的光线透过透明载片即可将图案投出,物体放置在顶盖上方即可在表面得到投影图案的像。但光源发出的部分光线会透过透明载片直接照射到物体表面,因此不适用于高反射物体。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是,提供一种可以在光源作用范围内的高反射物体表面形成规则图案的像,进而可达到表面修饰、缺陷检测等目的针对高反射物体的附着规则图案的光源装置。

本发明所采用的技术方案是:一种针对高反射物体的附着规则图案的光源装置,包括有顶部开有图像采集孔的光源罩和通过支架设置在图像采集孔上方的图像传感器,所述图像传感器的摄像头与所述的图像采集孔对应设置,还设置有在支撑所述光源罩的同时向光源罩提供光源并用于放置被测物体的发光底盘,所述光源罩的内侧壁上均匀涂有一层具有漫反射特性的单色涂层,所述单色涂层上涂有规则排列的具有漫反射特性的图案层。

所述的光源罩为内部中空并在底部形成有开口的立体结构。

所述的发光底盘包括有与光源罩底端口相对应的用于支撑所述光源罩和用于放置被测物体的底盘,沿底盘上端面的周边均匀安装有一圈以上发光部件,在所述光源罩盖在底盘上时,所述的发光部件位于所述光源罩的内侧,所述底盘上还一体形成有用于遮挡发光部件对放置在底盘上的被测物体进行照射的光源挡板。

所述的被测物体在所述光源罩内通过图像传感器的光轴所在直线与底盘上端面的交点。

所述的发光部件为LED光源、石英卤素灯、低压钠灯、高压汞灯中的一种。

所述的发光部件优选为LED光源。

所述的光源罩内侧壁上的单色涂层与规则排列的图案层颜色不同并具有一定的灰度反差,所述光源罩内侧壁上的单色涂层和规则排列的图案层均是采用具有高漫反射率的不同颜色涂料喷涂构成。

所述的光源罩内侧壁上的规则排列的图案层,是宽度相等的直线层,或是频率、幅值相等的正弦波纹层,或是间隙大小相等的矩形网格层,或是以光源罩顶部中心为原点的均匀放射的条纹层。

所述的光源罩内侧壁上的规则排列的图案层,是有序排列的字母层或数字层或几何图形层。

本发明的一种针对高反射物体的附着规则图案的光源装置,可以在光源作用范围内的高反射物体表面形成规则图案的像,进而可达到表面修饰、缺陷检测等目的。本发明的有益效果:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学,未经天津大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201511020111.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top