[发明专利]一种测试分选机用的吸嘴无效
申请号: | 201511023094.5 | 申请日: | 2015-12-31 |
公开(公告)号: | CN105499148A | 公开(公告)日: | 2016-04-20 |
发明(设计)人: | 邹锋;李勇昌;彭顺刚;朱金华;邹波 | 申请(专利权)人: | 桂林斯壮微电子有限责任公司 |
主分类号: | B07C5/02 | 分类号: | B07C5/02 |
代理公司: | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107 | 代理人: | 林培 |
地址: | 541004 广西壮族自*** | 国省代码: | 广西;45 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测试 分选 | ||
技术领域
本发明涉及一种半导体器件封装设备,具体涉及一种测试分选机用的 吸嘴。
背景技术
半导体器件制造完成后,需要对其进行检测、打标、分选、编带包装 多种不同工作,传统的技术中,上述各个工作过程是独立进行的,其检测 分选速度慢,设备多且杂,劳动量大且生产效率底下。目前,大都是由半 导体器件测试分选机来实现机械化操作。分选机工作时,半导体器件从上 料机构上料,然后进入分离台,吸嘴下行到半导体器件吸在吸嘴下部,现 有吸嘴的结构如图3所示,然后吸嘴抬起,旋转工作台转动至第一旋转定 位装置上方,吸嘴下行,使半导体器件下压进入模腔中,在模腔的导向作 用下,半导体器件转动,使得其位置精确定位在设定的位置,以便在随后 的检测中,其管脚与测试片匹配,当吸嘴再次升起后,旋转工作台再次转 动一个工位,测试片与半导体器件的管脚恰好正对,吸嘴下行,测试片接 触到管脚,如图4所示,对半导体器件的各项性能指标进行检测。
现有分选机的吸嘴结构存在一下缺点:其一,吸嘴吸着半导体器件上、 下行过程中,极易出现吸嘴吸不到产品的中心位置,在搬运过程中受到外 力作用引起半导体器件的管脚变形,从而导致管脚的共平面不一致,吸嘴 没有设置相关的定位保护装置,在与检测片接触的时候出现虚焊,降低半 导体器件的品质;其二,吸嘴结构为吸嘴杆和细长吸嘴头共为一体,而吸 嘴头的承受力小,从而在卡料或受外力作用时极易发生断裂,无法单独更 换吸嘴头,需整体更换造价高的吸嘴结构,且更换长,导致测试成本高、 生产效率低。
发明内容
针对现有技术存在的不足,本发明提供一种避免管脚变形、有效提高 半导体器件质量的测试分选机用的吸嘴。
为了达到上述目的,本发明采取的技术方案:
一种测试分选机用的吸嘴,包括吸嘴本体,所述吸嘴本体包括其中心 均设有真空流道的吸嘴杆和吸嘴头,所述吸嘴本体上设有可拆卸的定位保 护装置,该定位保护装置包括设于吸嘴本体两侧、且方向平行于吸嘴本体 的定位保护杆。
作为优选技术方案,为了防止定位保护杆作用于半导体器件管脚的力 过大而导致变形,同时避免管脚变形的半导体器件进入下一个工序,有效 提高半导体器件的质量,所述定位保护杆上均设有压力检测装置。
作为优选技术方案,为了使吸嘴结构可拆卸维修,降低维修成本,提 高分选机的生产效率,所述吸嘴杆和吸嘴头之间连接有连接件,所述连接 件中心设有与吸嘴杆、吸嘴头的真空流道相通的真空流道。
作为优选技术方案,为了提高吸嘴本体的吸附性,同时保证吸嘴本体 结构紧凑、合理,所述吸嘴杆、连接件、吸嘴头的真空流道的中心线位于 同一条直线上。
作为优选技术方案,为了提高吸嘴头的承受力和韧性,延长吸嘴头的 使用寿命,从而降低生产成本和提高生产效率,所述吸嘴杆、连接件、吸 嘴头均设置成圆柱状体,且吸嘴杆、连接件、吸嘴头的直径依次变小。
作为优选技术方案,为了保证吸嘴本体的结构紧凑、合理,同时保证 制造工艺简单,所述连接件的一端通过螺纹与吸嘴杆连接、另一端通过焊 接与吸嘴头连接。
与现有技术相比,本发明具有的有益效果:
1、吸嘴本体上设置可拆卸的定位保护装置,定位保护装置可半导体 器件的大小调整,既保证半导体器件的管脚位于同一平面,避免虚焊现象 的产生,同时承担了管脚的外力,避免半导体器件的管脚承受较大压力而 变形,有效提高半导体器件的质量。
2、定位保护杆上设有压力检测装置,防止定位保护杆作用于半导体 器件管脚的力过大而导致管脚变形,同时避免管脚变形的半导体器件进入 下一个工序,产品的质量高。
3、吸嘴杆与吸嘴头通过连接件连接,具有可拆卸性,可单独更换易 损件吸嘴头,且吸嘴杆、连接件、吸嘴头的结构、位置设置合理,保证吸 嘴本体结构紧凑,吸附力高,吸嘴头的使用寿命长,降低维修成本和提高 生产效率。
附图说明
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步地详细说明。
图1为本发明的结构示意图;
图2为本发明下压半导体器件与检测片接触的结构示意图;
图3为现有技术吸嘴的结构示意图;
图4为现有技术吸嘴下压半导体器件与检测片接触的结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桂林斯壮微电子有限责任公司,未经桂林斯壮微电子有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201511023094.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:TDS智能干选机
- 下一篇:一种弹条防腐材料及弹条防腐处理方法