[发明专利]一种光栅测量系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种光栅测量系统，适用于光刻机中工件台和掩模台的6个自由度的高精度测量，属于光刻机设备领域。

背景技术

纳米测量技术是纳米加工、纳米操控、纳米材料等领域的基础。IC产业、精密机械、微机电系统等都需要高分辨率、高精度的位移传感器，以达到纳米精度定位。随着集成电路朝大规模、高集成度的方向飞跃发展，光刻机的套刻精度要求也越来越高，与之相应地，获取工件台、掩模台的六个自由度位置信息的精度也随之提高。干涉仪有较高的测量精度，可达纳米量级，在光刻系统中，被运用于测量工件台、掩模台的位置。然而，目前干涉仪的测量精度几乎达到极限，同时干涉仪测量精度受周围环境影响较大，测量重复精度不高，传统干涉仪测量系统很难满足进一步提高套刻精度的要求。光栅测量系统在工作中受环境影响较小，有较好的重复精度，在新一代光刻系统中光栅测量系统已开始逐渐取代干涉仪，承担高精度、高稳定性的测量任务。

现有技术中公开了一种光栅测量系统，它采用光束垂直入射光栅，通过角锥棱镜返回衍射光束后获取水平方向和垂直方向的二维位置数据。如图1和图2所示，现有的光栅测量系统包括测量装置100和光栅200，所述测量装置100包括光源110、信号接收单元120、测量单元300及回射单元500，所述光源110为激光光源111，所述回射单元500为第一角锥棱镜501，所述测量单元300包括偏振分光棱镜301和第二角锥棱镜303，所述信号接收单元120包括探测器121和检偏器122。激光光源111发出具有一定频差的正交偏振光131，该正交偏振光131中同时包含P偏振光133和S偏振光132。正交偏振光131入射偏振 分光棱镜301，S偏振光132在偏振分光面302上反射，经第二角锥棱镜303反射后，再次在偏振分光棱镜301的偏振分光面302反射，经过检偏器122进入探测器121，该光束为参考光束。P偏振光133在偏振分光面302上透射后垂直入射光栅200，以β角401发生衍射，衍射光束134垂直入射第一角锥棱镜501后，反射光束135以相同角度返回衍射光栅200，以β角401再次入射到衍射光栅200，衍射光束136沿垂直方向返回测量单元，光束136在偏振分光面302上透射，经过检偏器122进入探测器121，该光束为测量光束。如果光栅200相对于测量探头100在垂向有位移时，如图2中光栅201所示，则光束133照射到光栅201后沿光束138方向衍射，经第一角锥棱镜501反射后沿光束139方向回射光栅201，在光栅201上再次发生衍射垂直返回测量单元，该光束为测量光束140。可以看到，测量光束140与参考光束137并不完全重合。当光栅相对于测量探头垂向位移过大时，就会出现参考光束与测量光束完全分离而无法探测到干涉信号的情况。现有的光栅测量系统的测量行程范围如图3所示，设光束直径为D，采用现有技术测量光束140相对于参考光束141最大偏移量Δ1＝D。因此，采用这种方案，光栅尺垂向测量范围受限于参考光束直径，影响垂向探测范围和测量精度，该方案无法满足大垂向测量范围的应用需求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种可以增加测量行程的光栅测量系统。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案予以实现：一种光栅测量系统，包括测量装置和光栅，所述测量装置设置有测量光束和参考光束，所述测量光束沿光束传播方向，依次经过光源、分光单元、所述光栅、第一回射单元、所述光栅、所述分光单元后，入射至信号接收单元，所述参考光束沿光束传播方向，依次经过光源、所述分光单元、扩束单元、第二回射单元、所述分光单元入射至所述信号接收单元。

优选的，所述测量光束，是通过所述光源发射的光束，经所述分光单元分 束的第一光束形成，所述参考光束，是通过所述光源发射的光束，经所述分光单元分束的第二光束形成。

优选的，所述第一回射单元用于将入射至所述第一回射单元的第一光束，沿入射方向平行的相反方向出射，所述第二回射单元用于将入射至所述第二回射单元的第二光束，沿入射方向平行的相反方向出射。

优选的，所述光源为激光光源。

优选的，所述激光光源为双频激光光源，发出的正交偏振光具有频差。

优选的，所述第一回射单元为第一角锥棱镜，所述第二回射单元为第二角锥棱镜。

优选的，所述分光单元采用偏振分光棱镜，所述偏振分光棱镜同时对准所述扩束元件和所述光栅。

优选的，所述信号接收单元包括探测器和检偏器，所述测量光束和参考光束通过检偏器进入探测器。