[发明专利]一种杀菌防炫增透的耐磨触摸显示屏及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种触摸显示屏技术领域，尤其是涉及一种杀菌防炫增透的耐磨触摸显示屏及其制造方法。

背景技术

随着社会的进步和科技的发展，手机、电脑、电视已广泛进入人们的工作和生活中，目前市面上手机、电脑、电视所带的显示屏以液晶、LED、LCD为主，随着人们对电脑、电视等带有显示屏的电子设备的使用时间的日益增长，由这些显示屏所发出的炫目光对眼睛视力的伤害越来越严重。

同时现有的触摸显示屏在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，触摸显示屏的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。另外，现有的触摸显示屏较少有杀菌功能，人们在使用过程中容易从触摸显示屏上感染细菌，给人体造成伤害。因此市场上迫切需要出现一种带有抗菌、防炫目功能的耐磨的触摸显示屏来取代现有的传统显示屏。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害，具有高耐磨性和防炫目功能，适于夜间使用的杀菌防炫增透的耐磨触摸显示屏及其制造方法。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种杀菌防炫增透的耐磨触摸显示屏，包括基片，所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第三膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层和第四膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第五膜层为纳米银层，第五膜层的厚度为5-20nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为10-50nm。

纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型。

所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃。

所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。

所述基片由树脂或玻璃成型。

本发明公开一种杀菌防炫增透的耐磨触摸显示屏的制造方法，在所述基片由树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）对基片的外表面进行镀膜；

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

B、镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

C、镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

D、镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7?/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

E、镀第五膜层：