[发明专利]一种杀菌防辐射的耐磨触摸显示屏及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种杀菌防辐射的耐磨触摸显示屏及其制造方法。

背景技术

现有的触摸显示屏在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，触摸显示屏的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。另外，现有的触摸显示屏较少有杀菌功能，人们在使用过程中容易从触摸显示屏上感染细菌，且触摸显示屏在使用过程中还会不断产生对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，给人体造成伤害。

发明内容

本发明的目的在于提供一种杀菌防辐射的耐磨触摸显示屏及其制造方法，该方法制造出来的触摸显示屏具有防止细菌或辐射对人体的伤害，而且具有高耐性。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种杀菌防辐射的耐磨触摸显示屏,包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层为ITO层，第一膜层的厚度为10-100nm；所述第二膜层为纳米银层，第二膜层的厚度为5-20nm；第三膜层为高硬度层，第三膜层的厚度为10-50nm。

所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型。

所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃。

所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并使用电子枪蒸镀成型。

所述基板为树脂或玻璃成型。

所述触摸显示屏的基板为树脂成型时，所述杀菌防辐射的耐磨触摸显示屏的制造方法具体包括以下步骤：

1）对基板的外表面进行清洗；

2）对基板的外表面进行镀膜；

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第一膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

B、镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，其中第二膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第二膜层的膜材的银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1?/S，第二膜层最终形成后的厚度为5-20nm的薄层的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃；

C、镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7?/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体,形成高硬度层。

所述步骤1）中，对基板清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面3分钟。

所述触摸显示屏的基板为玻璃成型时，所述杀菌防辐射的耐磨触摸显示屏制造方法具体包括以下步骤：

1）对基板的外表面进行清洗；

2）对基板的外表面进行镀膜；

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第一膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

B、镀第二膜层：