[发明专利]一种过滤蓝光杀菌防炫的灯罩及其制造方法

权利要求书

1.一种过滤蓝光杀菌防炫的灯罩，包括基片，其特征在于：所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层和第八膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5-20nm。

2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌防炫的灯罩，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。

3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌防炫的灯罩，其特征在于：所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。

4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌防炫的灯罩，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型。

5.根据权利要求4所述的一种过滤蓝光杀菌的灯罩，其特征在于：所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃。

6.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌防炫的灯罩，其特征在于：所述基片由树脂或玻璃成型。

7.根据权利要求6所述的一种过滤蓝光杀菌防炫的灯罩的制造方法，其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）对基片的外表面进行镀膜；

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

B、镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

C、镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1?/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

E、镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7?/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

F、镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

G、镀第七膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7?/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

H、镀第八膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1?/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃。