[发明专利]一种曝光装置及方法有效
申请号: | 201511031918.3 | 申请日: | 2015-12-31 |
公开(公告)号: | CN106933058B | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 施忞;杨志勇;白昂力 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 曝光 装置 方法 | ||
1.一种曝光方法,用于基底边缘曝光,其特征在于,包括:
步骤一、将掩模版放置在掩模台上,将基底放置在基底台上,运动控制模块控制所述基底台移动,使所述基底上的待曝光边缘场移动到曝光位置,曝光光源在垂直方向的分布呈周期性;
步骤二、计算并设置所述基底台的垂向运动速度,其中,所述基底台垂向运动一个周期的运动距离等于整数倍个所述曝光光源的垂直方向周期;
步骤三、所述基底台匀速的垂向周期性运动,对所述基底上的待曝光边缘场进行曝光;
步骤四、判断是否完成所有边缘场曝光,若没有,所述基底台水平移动,将下一待曝光边缘场移到曝光位置,重复步骤二和三;若完成所有边缘场曝光,取下基底,操作结束。
2.根据权利要求1所述的曝光方法,其特征在于,所述掩模版上的掩模图形为周期性图形,所述曝光光源的垂直方向周期Ts满足,Ts=2P2/λ,其中,P为所述掩模图形的周期,λ为所述曝光光源的波长。
3.根据权利要求1所述的曝光方法,其特征在于,所述基底台匀速的垂向运动一个周期的时间等于一个给定的基底边缘场曝光时间。
4.根据权利要求1所述的曝光方法,其特征在于,所述步骤四中还包括,所述基底台按照预设的边缘场曝光路径进行移动,从一个已曝光好的边缘场移动到下一个待曝光边缘场。
5.一种曝光装置,用于基底边缘曝光,其特征在于,包括激光器、光学系统、掩模版、基底台和运动控制模块,所述激光器发射光源经所述光学系统汇聚成平行光,经所述掩模版入射到位于所述基底台上的基底表面,所述运动控制模块在基底曝光过程中控制所述基底台作垂向运动,在曝光过程中,所述光源在垂直方向的分布呈周期性,所述运动控制模块控制所述基底台沿垂直方向进行匀速的垂向周期性运动,且所述基底台垂向运动一个周期的运动距离等于整数倍个所述光源的垂直方向周期。
6.根据权利要求5所述的曝光装置,其特征在于,所述光学系统包括反射镜和前组镜片,所述激光器发射光源经所述反射镜入射到所述前组镜片上,所述前组镜片将所述光源汇聚成平行光,入射到所述掩模版上。
7.根据权利要求5所述的曝光装置,其特征在于,所述运动控制模块在曝光前/后,控制所述基底台运动,使得所述基底上的待曝光边缘场移动到曝光位置。
8.根据权利要求7所述的曝光装置,其特征在于,所述掩模版上的掩模图形为周期性图形,光源的垂直方向周期Ts满足,Ts=2P2/λ,其中,P为所述掩模图形的周期,λ为所述光源的波长。
9.根据权利要求5所述的曝光装置,其特征在于,所述基底台垂向运动一个周期的时间等于一个给定的基底边缘场曝光时间。
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