[发明专利]一种多功能镜片及其制备方法

权利要求书

1.一种多功能镜片，包括基片，其特征在于：所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九膜层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，所述第三膜层为金属层，所述第八膜层为ITO层，所述第九膜层为纳米银层，所述第十膜层为高硬度层，所述第十一膜层为氟化物层。

2.根据权利要求1所述的一种多功能镜片，其特征在于：每层五氧化三钛层的厚度均为10-100nm，每层二氧化硅层的厚度均为50-100nm，金属层的厚度为5-20nm，ITO层的厚度为10-100nm，纳米银层的厚度为5-20nm，高硬度层的厚度为10-50nm，氟化物层的厚度为3-10nm。

3.根据权利要求1所述的一种多功能镜片，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。

4.根据权利要求1所述的一种多功能镜片，其特征在于：所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。

5.根据权利要求1所述的一种杀菌防水油污耐磨镜片，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型；所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃；所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型；所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻蒸镀成型。

6.根据权利要求1所述的一种多功能镜片，其特征在于：所述基片由树脂或玻璃成型。

7.根据权利要求6所述多功能镜片的制备方法，其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

B、镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

C、镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1?/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

E、镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7?/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

F、镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

G、镀第七膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7?/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

H、镀第八膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1?/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

I、镀第九膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，其中第九膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第九膜层的膜材的氧离子分离，第九膜层的膜材中的银以纳米级分子形式附着于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1?/S，第九膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中，所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃；

J、镀第十膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7?/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；

K、镀第十一膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5?/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm；其中，所述第十一膜层的膜材为氟化镁，形成氟化物层。