[发明专利]一种过滤蓝光防辐射的耐磨触摸显示屏及其制造方法

权利要求书

1.一种过滤蓝光防辐射的耐磨触摸显示屏，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层，所述第一膜层为五氧化三钛层，第一膜层的厚度为10-100nm；所述第二膜层为二氧化硅层，第二膜层的厚度为50-100nm；第三膜层为金属层，第三膜层的厚度为5-20nm；所述第四膜层为ITO层，第四膜层的厚度为10-100nm；所述第五膜层为高硬度层，该第五膜层的厚度为10-50nm。

2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防辐射的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述金属层膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍,并使用电子枪蒸镀成型。

3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防辐射的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述金属层膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,并使用电子枪蒸镀成型。

4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防辐射的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述高硬度层膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体,并使用电子枪蒸镀成型。

5.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防辐射的耐磨触摸显示屏，其特征在于：所述基板为树脂或玻璃成型。

6.一种根据权利要求5所述过滤蓝光防辐射的耐磨触摸显示屏的制造方法，其特征在于：所述触摸显示屏的基板为树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤：

1）对基板的外表面进行清洗；

2）对基板的外表面进行镀膜；

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层；

B、镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层；

C、镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1?/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm，其中第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层；

D、镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为1?/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第四膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

E、镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7?/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第五膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体,形成高硬度层。

7.根据权利要求6所述的一种过滤蓝光防辐射的耐磨触摸显示屏的制造方法，其特征在于：所述步骤1）中，对基板清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面3分钟。