[发明专利]陶瓷基复合涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种陶瓷基复合涂层，其特征在于，包括如下质量分数的组份：

含炔基树脂：1％-99％；

聚硼硅氮烷树脂和聚硅氮烷树脂：1％-99％；

填料：1％-99％；

所述含炔基树脂、所述聚硼硅氮烷和聚硅氮烷树脂、所述填料的质量总和为100％；

所述的陶瓷基复合涂层的制备方法，包括下述步骤：

步骤S10：按质量比为(1％-99％)：(1％-99％)：(1％-99％)将含炔基树脂、聚硼硅氮烷和聚硅氮烷树脂、填料混合均匀，其中，所述含炔基树脂、所述聚硼硅氮烷和聚硅氮烷树脂、所述填料的质量总和为100％；

步骤S20：在上述混合物中添加有机溶剂稀释，经研磨、分散后，涂覆或浸渍碳纤维上；

步骤S30：经步骤S20后得到的产物，于100℃-400℃进行固化交联，再在惰性气氛中，于大于1400℃且小于或等于1800℃进行高温裂解，形成耐高温的所述陶瓷基复合涂层。

2.根据权利要求1所述的陶瓷基复合涂层，其特征在于，所述炔基树脂包括芳基乙炔树脂、乙炔基封端的聚酰亚胺树脂、含硅芳炔树脂、端炔基聚砜树脂、端炔基苯并吡啶树脂、乙炔基苯并噁嗪树脂、炔丙基酚醛树脂中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的陶瓷基复合涂层，其特征在于，所述聚硼硅氮烷是含有B元素的以-Si-N-为重复单元的聚合物，所述聚合物包括含硼氮六元环的聚硅硼氮烷及以-Si-N--B-N-Si-N-重复结构单元的聚硼硅氮烷，其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅为H、烃基、硅烃基、含杂原子烃基或卤素；x、y、z为非0自然数

4.根据权利要求1所述的陶瓷基复合涂层，其特征在于，所述聚硅氮烷是一种含-Si-N-重复单元的聚合物，其中R₁、R₂、R₃为H、烃基、硅烃基、含杂原子烃基或卤素；x、y、z为非0自然数

5.根据权利要求1所述的陶瓷基复合涂层，其特征在于，所述填料为难熔金属Hf或Zr的氧化物、碳化物，所述填料为HfO₂、ZrO₂、HfC或ZrC中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的陶瓷基复合涂层，其特征在于，所述填料的粒径在50-500nm之间。

7.根据权利要求6所述的陶瓷基复合涂层，其特征在于，所述填料的粒径在100-300nm之间。

8.一种根据权利要求1所述的陶瓷基复合涂层的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：

步骤S10：按质量比为(1％-99％)：(1％-99％)：(1％-99％)将含炔基树脂、聚硼硅氮烷和聚硅氮烷树脂、填料混合均匀，其中，所述含炔基树脂、所述聚硼硅氮烷和聚硅氮烷树脂、所述填料的质量总和为100％；

步骤S20：在上述混合物中添加有机溶剂稀释，经研磨、分散后，涂覆或浸渍碳纤维上；

步骤S30：经步骤S20后得到的产物，于100℃-400℃进行固化交联，再在惰性气氛中，于大于1400℃且小于或等于1800℃进行高温裂解，形成耐高温的所述陶瓷基复合涂层。

9.根据权利要求8所述的陶瓷基复合涂层的制备方法，其特征在于，所述溶剂为甲苯、二甲苯、正己烷、环己烷、正庚烷中的至少一种。

10.根据权利要求8所述的陶瓷基复合涂层的制备方法，其特征在于，所述固化的温度为150℃-350℃，所述惰性气氛为N₂或Ar，所述高温裂解的升温速度为5-10℃/min。