[实用新型]超薄反应腔

说明书

技术领域

本实用新型属于用于激光气相化学反应的密闭空腔装置技术领域，尤其涉及超薄反应腔。

背景技术

目前，在半导体器件、液晶、等离子、有机EL等显示器件以及光掩膜制造等精密的激光微细加工领域(微米、亚微米、深亚微米级)，在生产时，半成品往往带有一些各种形式的缺陷，这些缺陷需要进行修补处理后才能变成合格的产品。现有的修补技术有：聚焦离子束(FIB)修补、点胶(Dispensing)修补、激光气相化学沉积(Laser Chemical Vapor Deposition，LCVD)修补等。其中，激光气相化学沉积修补成本适中，修补效果也满足使用要求。

在现有激光气相化学沉积修补技术中，一般采用激光源、透镜组及反应腔，其激光源发射的激光束先经过透镜组之后，再透过反应腔投射于待修补产品的加工面上，而反应气经由反应腔内部气道分配流经待修补产品的加工面，对待修补产品进行修补。

然而，现有的反应腔厚度大，其不能在高分辨率和短工作距离的透镜组下使用，难以提高激光气相化学反应的定域精度。而且，气流分配不均匀，使得激光气相化学反应效率低，修补区域对反应气气流沉积方向和气流进出口区域敏感，造成沉积成膜不良，而使缺陷修补失败，从而使整个产品报废。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供超薄反应腔，旨在解决现有反应腔由于厚度大而使得激光气相化学反应定域精度差以及由于气流分配不均而使得激光气相化学反应效率低、修补区域对反应气气流沉积方向和气流进出口区域敏感、沉积不良、缺陷修补失败的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的超薄反应腔的技术方案是，其包括基座，所述基座上穿设有反应孔，所述反应孔的孔内上侧设有用于盖住所述反应孔且透明的窗口片，下侧设有喷嘴部件，所述喷嘴部件穿设有反应气喷口，所述喷嘴部件的上表面可拆卸连接有反应气分配环，所述反应气分配环的内孔与所述反应气喷口相对、可供激光束穿过；所述反应气分配环开设有一与所述反应气喷口相通的环形气道，所述基座上设有一与所述环形气道相通的反应气进气道，所述基座下表面上于所述反应孔的外周设有一呈环状的反应气收集嘴，所述基座上还设有一与所述反应气收集嘴及外界相通的反应气出气道，所述基座下表面上于所述反应气收集嘴的外周设有一呈环状、用于抽离空气以使反应气被真空隔离的真空抽气嘴，所述基座上还设有一与所述真空抽气嘴相通的真空抽气道；所述反应气分配环上设有多个周向分布、与所述环形气道相通的凹槽，所述凹槽的大小沿反应气流动的方向逐渐变大。

进一步地，所述基座上设有一静压空气进气道，所述基座下表面上于所述真空抽气嘴的外周设有一呈环状、与所述静压空气进气道相通的静压空气节流嘴。

进一步地，所述窗口片的厚度小于或等于3.0mm。

进一步地，所述基座于所述窗口片下方设有一往所述窗口片下表面输送保护气以避免反应气于所述窗口片下表面上沉积的保护气进气道及保护气出气道。

进一步地，所述反应孔为阶梯孔，所述阶梯孔包括上级台阶及位于所述上级台阶下方的下级台阶，所述喷嘴部件搭接于所述下级台阶上，所述窗口片搭接于所述上级台阶上。

进一步地，所述反应气喷口形状呈锥状，所述反应气分配环的内孔设有与所述反应气喷口形状相适、中空呈锥状的圆台，所述圆台贴设于所述反应气喷口中。

进一步地，所述基座上表面覆盖有产生热量以保证反应气反应温度的加热薄膜。

进一步地，所述加热薄膜与所述窗口片之间设有用于防止反应气泄漏的垫圈。

进一步地，所述超薄反应腔的总厚度小于或等于9.0mm。

本实用新型提供的超薄反应腔相比较现有技术的有益效果：

上述超薄反应腔包括基座，基座上穿设有反应孔，反应孔的孔内下侧设有喷嘴部件及反应气分配环，反应气分配环开设有环形气道，基座上还设有一反应气进气道、一反应气出气道及一真空抽气道，基座下表面上设有一呈环状的反应气收集嘴及一真空抽气嘴。由于反应气分配环与喷嘴部件可拆卸连接，紧密贴设，而不采用螺钉、螺母等连接，使得反应气分配环与喷嘴部件整体的厚度变小；并且，由于基座上只设置一个反应气进气道、一个反应气出气道及一个真空抽气道，因此，基座上用于设置反应气进气道、反应气出气道及真空抽气道的空间将变小，这样，利于减少基座整体的厚度，使得超薄反应腔的总厚度更薄，可应用于分辨率更高、工作距离更短的透镜组下，以提高激光气相化学反应的定域精度，即使得激光束于待加工表面上的投射圆点直径更小，从而使其可修补更细小的缺陷。