[实用新型]双轴深孔钻机床有效

专利信息
申请号: 201520043396.8 申请日: 2015-01-21
公开(公告)号: CN204449399U 公开(公告)日: 2015-07-08
发明(设计)人: 马汉臣 申请(专利权)人: 马汉臣;马立东;李璟
主分类号: B23B41/02 分类号: B23B41/02;B23B47/00;B23Q3/06;B23Q11/00
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 刘洪勋;杨佳龙
地址: 221625 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 双轴深孔 钻机
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种钻孔装置,尤其涉及一种双轴深孔钻机床。

背景技术

现有的深孔钻机床只能一次性对一个工件进行深孔加工,加工效率低;枪钻在钻工件时产生的废屑和废液四处飞溅,不仅污染机床且易造成人身伤害;工件的定位装置结构复杂。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种能同时加工两个工件,设置排屑箱收集废屑和废液,定位装置灵活可调的深孔钻机床。

为实现上述目的,本实用新型提供一种双轴深孔钻机床,包括机床体,所述机床体上设置有滑轨,所述滑轨上滑动设置主轴安装板,所述主轴安装板上设置有变频电机和两个位于同一高度的主轴,两个所述主轴的一端由所述变频电机通过皮带同步传动,两个所述主轴的另外一端均安装有枪钻,位于所述枪钻移动方向的所述机床体上设置有排屑箱,所述排屑箱中空,所述排屑箱上设置有第一导向套和第二导向套,所述第一导向套和所述第二导向套分别设置在所述排屑箱的两个相对的侧面上,所述第一导向套和所述第二导向套上均开有与所述枪钻截面相匹配的导向孔,所述导向孔位于所述枪钻移动轨迹上。

优选地,位于所述枪钻移动轨迹的所述机床体上设置有工件顶紧装置,所述工件顶紧装置通过移动轨道设置在所述机床体上,所述工件顶紧装置与所述排屑箱的距离可调,所述工件顶紧装置包括一个顶紧装置安装板,所述顶紧装置安装板上水平设置有圆锥形的顶紧头,所述顶紧头与所述枪钻的距离大于所述排屑箱与所述枪钻的距离,所述移动轨道上设置有支架移动板,所述支架移动板上安装有Y型支架,所述Y型支架位于所述工件顶紧装置与所述排屑箱之间。

优选地,所述支架移动板上设置有竖直安装板,所述竖直安装板的竖直方向间隔设置多个第一通孔,所述Y型支架的竖直部的竖直方向间隔设置有第二通孔,还包括穿过所述第二通孔和任一所述第一通孔的固定螺钉。

本实用新型提供的双轴深孔钻机床,能同时对两个工件进行深孔加工;设置排屑箱收集废屑和废液,避免废屑和废液飞溅;工件顶紧装置和支架随工件的尺寸可灵活调整位置。

附图说明

图1为本实用新型双轴深孔钻机床的结构示意图;

图2为本实用新型双轴深孔钻机床的左视结构示意图。

图中:1-机床体,2-滑轨,3-主轴安装板,4-变频电机,5-主轴,6-皮带,7-枪钻,8-排屑箱,9-第一导向套,10-第二导向套,11-工件顶紧装置,12-顶紧头,13-移动轨道,14-Y型支架,15-工件。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步的说明:

请参考图1和图2,一种双轴深孔钻机床,包括机床体1,机床体1上设置有滑轨2,滑轨2上滑动设置有主轴安装板3,主轴安装板3上设置有变频电机4和主轴5,变频电机4通过皮带6驱动两个主轴5的后端同步转动,主轴5的前端安装有枪钻7,位于枪钻7移动方向的机床体1上设置有排屑箱8,排屑箱8中空,排屑箱8上设置有第一导向套9和第二导向套10,第一导向套9和第二导向套10分别设置在排屑箱8的两个相对的侧面上,第一导向套9和第二导向套10上均开有与枪钻7截面相匹配的导向孔,导向孔位于枪钻7动轨迹上。中空的排屑箱8用于收集深孔钻产生的废屑和冷却液,避免深孔加工时,从枪钻7的排屑槽回流的废屑和冷却液混合体在主轴高速旋转式飞溅的机床体1四周难以清理或造成人身伤害。

位于枪钻7移动轨迹的机床体1上设置有工件顶紧装置11,工件顶紧装置11包括一个顶紧装置安装板,顶紧装置安装板上水平设置有圆锥形的顶紧头12,顶紧头12与枪钻7的距离大于排屑箱8与枪钻7的距离。深孔加工 之前,对工件15钻出一个小孔,用于容置顶紧头12,方便深孔加工过程中对工件的定位;工件15的下侧设置Y型支架14用于承托工件15,Y型支架14根据工件15尺寸支架升降可调(用螺钉穿过合适位置的第一通孔和第二通孔调整Y型支架14的高度);工件顶紧装置11通过移动轨道13设置在机床上,根据工件15的长度调整工件顶紧装置11与排屑箱8的距离。

上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型创造所作的举例,而并非对本实用新型创造具体实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所引伸出的任何显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造权利要求的保护范围之中。

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