[实用新型]一种镀液循环系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种电镀池，具体地涉及一种镀液循环系统。

背景技术

 随着半导体芯片的集成度不断提高，晶体管的特征尺寸不断缩小。进入到130 纳米技术节点之后，受到铝的高电阻特性的限制，铜互连逐渐替代铝互连成为金属互连的主流。

电镀池内的各成分的含量都是有一定范围限制的，使用时间一长难免会混入杂质，电镀时或者闲置时都会混入杂质，而使得电镀液无法使用，因此需要对杂质超标的电镀液进行澄清处理，以便电镀液可以循环使用，降低成本。

发明内容

本实用新型旨在提供一种镀液循环系统，该种镀液循环系统，可以对混入杂质的电镀液进行处理，循环使用。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是：一种镀液循环系统，包括电镀池，所述电镀池内设置有电镀液分析装置，所述电镀液分析装置设置在电镀池中部，所述电镀池四周设置有澄清池，所述电镀池的底部设置有管路连接澄清池，所述澄清池的底部低于电镀池的底部，所述澄清池内设置有水泵。

进一步的，所述澄清池上端设置有电动搅拌器，所述电动搅拌器的搅拌轮设置在澄清池的中部，所述澄清池的下端设置有排空管，所述管路连接在澄清池的上端两侧。

进一步的，所述澄清池的形状为倒梯形。

本实用新型的有益效果是：该渡液循环系统，可以对混入杂质的电镀液进行处理，循环使用。结构简单，控制方式简单，安全环保，成本低廉，可以将电解液循环使用。该种结构的澄清池澄清速度快，可以讲杂质有效排除。

附图说明

图1是本实用新型镀液成份超标自动处理的镀液池的结构示意图；

图2是本实用新型镀液成份超标自动处理的镀液池的原理框图。

其中，1、电镀池，2、电镀液分析装置，3、澄清池，4、水泵，5、电动搅拌器，6、搅拌轮，7、排空管，10、管路，11、电磁阀。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。

如图1、2所示，一种镀液循环系统，包括电镀池1，电镀池1内设置有电镀液分析装置2，电镀液分析装置2设置在电镀池1中部，电镀池1四周设置有澄清池3，电镀池1的底部设置有管路10连接澄清池3，澄清池3的底部低于电镀池1的底部，澄清池3内设置有水泵4。澄清池3上端设置有电动搅拌器5，电动搅拌器5的搅拌轮6设置在澄清池3的中部，澄清池3的下端设置有排空管7，管路10连接在澄清池3的上端两侧，澄清池3的形状最好为倒梯形，这种形状的澄清池，澄清效果以及排出杂质的效果都是很好的。管路10上安装有电磁阀11可以控制管路的开闭。

如图2为该装置的原理框图，

电镀池1中的电镀液分析装置2可以实时分析电镀池1中各成分的含量，并将数据传送给单片机，单片机进行处理，若含量低于设定值并且杂质明显超标时，将电磁阀11打开，电解液在重力作用下自动排出到澄清池3中，然后在澄清池3中加入药剂并控制电动搅拌器5工作，澄清完毕后利用水泵将上层液体抽回电镀池，从而可以循环使用电镀液，降低成本，安全环保，底层杂质通过排空管排出。

应当理解的是，本实用新型的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本实用新型的原理，而不构成对本实用新型的限制。因此，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。此外，本实用新型所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。