[实用新型]用于污水沉淀处理的可移动式均匀添加沉淀剂的装置有效
申请号: | 201520076636.4 | 申请日: | 2015-02-04 |
公开(公告)号: | CN204434341U | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 张奇 | 申请(专利权)人: | 张奇 |
主分类号: | C02F1/52 | 分类号: | C02F1/52;B01F1/00;B01F7/18 |
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地址: | 262700 山东省潍坊*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 污水 沉淀 处理 移动式 均匀 添加 沉淀剂 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及到一种污水处理辅助装置,尤其是涉及一种用于污水沉淀处理的可移动式均匀添加沉淀剂的装置,属于污水处理技术领域。
背景技术
污水处理是为使污水达到排水某一水体或再次使用的水质要求,并对其进行净化的过程。污水处理被广泛应用于建筑、农业,交通、能源、石化、环保、城市景观、医疗、餐饮等各个领域,也越来越多地走进寻常百姓的日常生活。
现有的污水处理方法工艺中,需要向污水中添加沉淀剂使污水中的污染物沉淀,现有的添加装置不能均匀的将沉淀剂添加到污水中。
实用新型内容
本实用新型提出了一种用于污水沉淀处理的可移动式均匀添加沉淀剂的装置,采用在沉淀剂溶解筒上安装搅拌电机和搅拌轴的设计,能够在沉淀剂喷洒时,不断搅拌沉淀剂,防止沉淀、混合不均匀,其结构简单,使用方便。
本实用新型解采用以下技术方案来解决现有的技术问题。
一种用于污水沉淀处理的可移动式均匀添加沉淀剂的装置,其结构包括:右支架、左支架、横梁、气泵、支架、沉淀剂溶解筒、搅拌电机、搅拌轴、搅拌叶片、压缩调节弹簧、调节螺母、活动铰链、喷洒腔、喷洒孔、移动轮、连接板、调节螺纹轴、气管,所述的左支架和右支架之间通过活动铰链安装横梁,横梁的上部设置沉淀剂溶解筒,沉淀剂溶解筒上安装搅拌电机,搅拌电机内安装搅拌轴,搅拌轴上安装搅拌叶片,所述的沉淀剂溶解筒通过气管与气泵连通,气泵通过支架固定在横梁上,所述的横梁的底部通过连接板安装喷洒腔,喷洒腔的底部设置喷洒孔,所述的调节螺纹轴穿过左支架和右支架,左支架和右支架之间的调节螺纹轴上安装压缩调节弹簧,所述的调节螺纹轴的两端安装调节螺母,所述的左支架和右支架的底端安装移动轮,移动轮安装在沉淀池两侧的移动导轨上。
进一步,所述的左支架和右支架是采用U型钢制成,所述的沉淀剂溶解筒是采用塑料材质加工而成,所述的喷洒腔是采用不锈钢材质加工而成。
本实用新型的有益效果是:本实用新型提出的一种用于污水沉淀处理的可移动式均匀添加沉淀剂的装置,采用在沉淀剂溶解筒上安装搅拌电机和搅拌轴的设计,能够在进行沉淀剂喷洒时,不断搅拌沉淀剂,防止沉淀、混合不均匀,其结构简单,使用方便。
附图说明
图1是本实用新型的结构图。
1-右支架;2-左支架;3-横梁;4-气泵;5-支架;6-沉淀剂溶解筒;7-搅拌电机;8-搅拌轴;9-搅拌叶片;10-压缩调节弹簧;11-调节螺母;12-活动铰链;13-喷洒腔;14-喷洒孔;15-移动轮;16-连接板;17-调节螺纹轴;18-气管;19-沉淀池;20、移动移动导轨。
具体实施方式
以下结合附图和实例对本实用新型作进一步说明。
如图1所示,一种用于污水沉淀处理的可移动式均匀添加沉淀剂的装置,其结构包括:右支架1、左支架2、横梁3、气泵4、支架5、沉淀剂溶解筒6、搅拌电机7、搅拌轴8、搅拌叶片9、压缩调节弹簧10、调节螺母11、活动铰链12、喷洒腔13、喷洒孔14、移动轮15、连接板16、调节螺纹轴17、气管18,所述的左支架2和右支架1之间通过活动铰链12安装横梁3,横梁3的上部设置沉淀剂溶解筒6,沉淀剂溶解筒6上安装搅拌电机7,搅拌电机7内安装搅拌轴8,搅拌轴8上安装搅拌叶片9,所述的沉淀剂溶解筒6通过气管18与气泵4连通,气泵4通过支架5固定在横梁3上,所述的横梁3的底部通过连接板安装喷洒腔13,喷洒腔13的底部设置喷洒孔14,所述的调节螺纹轴17穿过左支架2和右支架1,左支架2和右支架1之间的调节螺纹轴17上安装压缩调节弹簧10,所述的调节螺纹轴17的两端安装调节螺母11,所述的左支架2和右支架1的底端安装移动轮15,移动轮15安装在沉淀池19两侧的移动导轨20上。
具体地,所述的左支架2和右支架1是采用U型钢制成,所述的沉淀剂溶解筒6是采用塑料材质加工而成,所述的喷洒腔13是采用不锈钢材质加工而成,本实用新型采用在沉淀剂溶解筒上安装搅拌电机和搅拌轴的设计,能够在进行沉淀剂喷洒时,不断搅拌沉淀剂,防止沉淀、混合不均匀,其结构简单,使用方便。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内,本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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