[实用新型]一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备

权利要求书

1. 一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备，包括真空室（8），其特征在于，所述的真空室（8）中设相互绝缘等距分布的源极（2）和阴极（3），源极（2）和阴极（3）外设置隔热栅（12），真空室（8）上方设阳极（1）；阳极（1）和阴极（3）分别接在脉冲偏压电源（9）的正极和负极，阳极（1）和源极（2）分别接在直流偏压电源（10）的正极和负极，且阳极（1）接地；真空室（8）后侧设真空系统（11），真空室（8）的底部设氩气入口（7），真空室（8）的前侧设真空室炉门（4），真空室炉门（4）中部设置有观察窗（5），在真空室（8）外设光学测温仪（6），光学测温仪（6）位置与观察窗（5）对应。

2.根据权利要求1所述的一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备，其特征在于，所述的源极（2）和阴极（3）相互绝缘且平行等距，源极（2）表面与相对应的平行阴极（3）表面的距离为5-200mm。

3.根据权利要求1所述的一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备，其特征在于，所述的源极（2）和阴极（3）的结构为平板式、立式或筒式。