[实用新型]一种含铊工业废水处理装置有效
申请号: | 201520105041.7 | 申请日: | 2015-02-13 |
公开(公告)号: | CN204474458U | 公开(公告)日: | 2015-07-15 |
发明(设计)人: | 贺前锋;宋乐山;言海燕;阙雄杰;刘豹;赵迪 | 申请(专利权)人: | 湖南永清环保研究院有限责任公司 |
主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强;王娟 |
地址: | 410330 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工业 废水处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及环保机械和环境工程技术领域,特别是一种含铊工业废水处理装置。
背景技术
目前,应用于工业含铊废水处理的方法主要有化学沉淀,混凝,离子交换,吸附等方法。其中离子交换和吸附方法只适用于低浓度的含铊废水处理,并且其受其他干扰离子的影响较大。化学沉淀法适用范围较广,操作和管理也较为简单。铊在水溶液主要以一价和三价的形态为主,一价铊的性质与钠和钾相似,不容易从水中分离。三价铊在碱性条件下可以形成Tl(OH)3沉淀。大多数的铊处理工艺都包含铊的氧化过程。在化学氧化沉淀工艺中,pH和氧化还原电位将影响整个化学反应的进行,但是目前大多数的处理工艺却没有精确的氧化沉淀控制系统。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是,针对现有技术不足,提供一种含铊工业废水处理装置。
为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种含铊工业废水处理装置,包括三个ORP检测仪、三个PH检测仪、以及依次连通的I级反应区、II级反应区、III级反应区;所述III级反应区底部与出水管连通;所述I级反应区上部设有布水装置;所述布水装置与进水管连通;所述I级反应区、II级反应区、III级反应区分别与第一氧化剂管、第二氧化剂管、第三氧化剂管连通;所述I级反应区、II级反应区、III级反应区分别与第一碱液管、第二碱液管、第三碱液管连通;所述第一氧化剂管、第二氧化剂管、第三氧化剂管上均安装有氧化剂控制阀;所述第一碱液管、第二碱液管、第三碱液管上均安装有碱液控制阀;所述三个ORP检测仪的处理器分别与三个氧化剂控制阀的线圈电连接;所述三个ORP检测仪的处理器分别与三个碱液控制阀的线圈电连接;第一ORP检测仪的探头、第一PH检测仪的探头伸入I级反应区内;第二ORP检测仪的探头、第二PH检测仪的探头伸入II级反应区内;第三ORP检测仪的探头、第三PH检测仪的探头伸入III级反应区内。
所述I级反应区底部与所述II级反应区连通;所述II级反应区顶部与所述III级反应区连通。
所述I级反应区顶部通过回流管与所述出水管连通。
所述回流管上安装有回流系统控制阀;所述第三ORP检测仪的处理器与所述回流系统控制阀的线圈电连接。
所述出水管与所述回流管一端之间的出水管上安装有手动控制阀;所述出水管出水端安装有电动控制阀,所述第三ORP检测仪的处理器与所述电动控制阀的线圈电连接。
三个搅拌电机M的输出轴分别伸入所述I级反应区、II级反应区、III级反应区内,使各个反应区内反应更加充分。
所述I级反应区、II级反应区、III级反应区的体积比为1:3:1~1:5:1。
当III级反应区内第三ORP检测仪检测的电压为 400-500mV时,III级反应区的出水全部回流至I级反应区。
所述氧化剂管内的氧化剂为5~10%高锰酸钾。
所述碱液管内的碱液为10~20%石灰溶液。
与现有技术相比,本实用新型所具有的有益效果为:本实用新型的装置可实现自动控制和连续运行,结构简单,处理效率高,药剂成本小,具有较好的市场应用价值和推广潜能。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
图1中1、2、3分别为在线第一ORP检测仪、第二ORP检测仪、第三ORP检测仪,4、5、6分别为在线第一pH检测仪、第二pH检测仪、第三pH检测仪。K1、K2、K3为氧化剂(可以采用10% KMnO4溶液)加药电动控制阀, K4、K5、K6为碱液(可以采用10%石灰乳液)电动控制阀。第一ORP检测仪、第二ORP检测仪1、2的微控主机对电动控制阀K1、K2实现在线控制,分别控制I、II级反应区内高锰酸钾溶液的投加。第一pH检测仪、第二pH检测仪4、5的微控主机对电动控制阀K4、K5实现在线控制,分别控制I、II级反应区内石灰的投加。第三ORP检测仪3的微控主机对电动阀K3、出水阀K8,回流阀K9进行在线控制,分别控制III级反应区内高锰酸钾的投加,出水以及回流工序。第三pH检测仪6的微控主机对电动控制阀K6进行在线控制,控制III级反应区内石灰的加入量,保障该区溶液pH值达到反应要求。
I级反应区内控制溶液pH(7-8),ORP电位100-200mV;II级反应区内控制溶液pH(8-9),ORP电位200-300mV;III级反应区内控制溶液pH(8-9),ORP电位300-400mV。
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