[实用新型]一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置有效
申请号: | 201520107926.0 | 申请日: | 2015-02-13 |
公开(公告)号: | CN204608147U | 公开(公告)日: | 2015-09-02 |
发明(设计)人: | 孔令杰;吴克松;丁玉林 | 申请(专利权)人: | 安徽贝意克设备技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/28 | 分类号: | C23C14/28 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230088 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 近距离 可调 化合物 蒸发 镀膜 红外 真空 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及化合物蒸发镀膜设备技术领域,具体的说涉及一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置。
背景技术
现有化合物蒸发镀膜设备大都采用电阻丝加热,由于电阻丝本身具有热惯性大且升降温速率慢的特性,使得其温度上限很低,限制了化合物蒸发镀膜设备的使用范围,并且电阻丝具有温度反应敏度低、缠绕复杂等问题,要占用化合物蒸发镀膜设备的大量真空腔空间,而且现有化合物蒸发镀膜设备加热区区间位置固定,不能调节,对不同化合物的加热不能有效利用热源,加热效果差,且造成能源浪费,增大了耗能。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置,其结构独特简单,有利于实现真空洁净环境,能够实现单独控制,快速升降温度,而且加热部件区间距离可调,加热效果好。
为了解决背景技术所存在的问题,本实用新型采用以下技术方案:
一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置,包括有箱体,所述的箱体内包括有试样反应区、真空腔体、加热区,试样反应区、真空腔体、加热区通过插板隔断,所述的试样反应区内设有反应炉,所述的真空腔体内设有真空机组及控制装置,所述的加热区内设有加热蒸发机构,箱体的加热区的两侧面板开设有散热槽孔,所述的加热区顶部活动连接有散热窗口,散热窗口位于加热蒸发机构的上方,所述的加热区的一侧面上设有显示装置,显示装置的一侧开设有凹槽,所述的箱体的试样反应区的两侧面板开设有散热槽孔,箱体的底部设有万向转轮。
所述的箱体内设置插板,使得箱体内部分隔为试样反应区、真空腔体、加热区,所述的箱体的上部主视边为倒角结构,所述的散热窗口活动连接在箱体的上端面,所述的散热窗口开为V型结构,所述的散热窗口的一边上端面开设有散热槽孔,所述的散热窗口的另一边上设有把手,方便操作人员对散热窗口进行操作。
所述的试样反应区的底部设有反应炉,所述的反应炉的底部通过连接杆架固定在试样反应区的底部,所述的反应炉的顶部的排气阀穿过试样反应区与真空腔体之间的插板并伸入到真空腔体内。
所述的真空腔体内设有真空机组,真空机组通过支撑架固定在真空腔体内,所述的支撑架下方设有排气阀,所述的真空机组上方设有控制装置,所述的真空腔体的一外侧面设有控制组件。
所述的加热区内设有加热蒸发机构,所述的加热蒸发机构通过螺栓固定在加热区底部的支撑板上,所述的加热蒸发机构包括有腔体,所述的腔体的上端、下端分别连接有上盖法兰、底座法兰,所述的上盖法兰、底座法兰的圆周内侧开设有多个相邻两两相互等距的圆孔,底座法兰的上端面固定有下加热区机构,底座法兰上开设有多个连接圆孔,连接圆孔上连接着真空电极组件,上盖法兰的上端面中部设有承接件,所述的承接件的一侧设有排气阀,所述的承接件通过升降调节旋钮与上加热区机构的光轴连接,上加热区机构固定在上盖法兰的下端面,所述的腔体的侧面上开设有槽孔,槽孔上固定有透视组件,所述的透视组件上设有透明玻璃,所述的透视组件与透明玻璃之间固定连接有O型圈。
本实用新型有益效果:本实用新型其结构独特简单,有利于实现真空洁净环境,能够实现单独控制,快速升降温度,而且可通过升降调节旋钮调节光轴,使得加热部件区间距离可调,加热效果好,降低了损耗。
附图说明
图1为实用新型侧视剖视结构示意图;
图2为本实用新型主视结构示意图;
图3为本实用新型立体结构示意图;
图4为本实用新型部分结构示意图。
具体实施方式
一种近距离可调化合物蒸发镀膜红外真空装置,包括有箱体1,所述的箱体1内包括有试样反应区2、真空腔体3、加热区4,试样反应区2、真空腔体3、加热区4通过插板5隔断,所述的试样反应区2内设有反应炉6,所述的真空腔体3内设有真空机组7及控制装置8,所述的加热区4内设有加热蒸发机构9,箱体1的加热区4的两侧面板开设有散热槽孔10,所述的加热区4顶部活动连接有散热窗口11,散热窗口11位于加热蒸发机构9的上方,所述的加热区4的一侧面上设有显示装置12,显示装置12的一侧开设有凹槽13,所述的箱体1的试样反应区2的两侧面板开设有散热槽孔10,箱体1的底部设有万向转轮14。
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