[实用新型]一种可调化合物蒸发镀膜红外真空装置的上加热区机构有效
| 申请号： | 201520109455.7 | 申请日： | 2015-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN204608145U | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | 孔令杰;吴克松;丁玉林 | 申请（专利权）人： | 安徽贝意克设备技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230088 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 可调 化合物 蒸发 镀膜 红外 真空 装置 加热 机构 | ||
1.一种可调化合物蒸发镀膜红外真空装置的上加热区机构，其特征在于：包括有加热基片，所述的加热基片上方设有上加热区底座，所述的加热基片与上加热区底座通过卡扣固定连接，所述的上加热区底座上设有红外加热管，所述的红外加热管两侧连接有多根红外加热管连接棒，所述的红外加热管上设有灯管压块，灯管压块两侧开设有多个圆孔，所述的红外加热管连接棒穿过圆孔，所述的灯管压块上设有云母片，所述的上加热区底座两侧上端通过卡扣固定有接线排，所述的云母片的上方设有升降底板，所述的升降底板通过卡扣与上加热区底座固定连接，所述的升降底板上端面中部开设有连接槽，连接槽上连接有光轴。
2.根据权利要求1所述的一种可调化合物蒸发镀膜红外真空装置的上加热区机构，其特征在于：所述的加热基片为平板状，所述的加热基片上开设有多个槽孔，加热基片的两侧设有弧状L型连接件，与上加热区底座两侧的卡槽卡合连接。
3.根据权利要求1所述的一种可调化合物蒸发镀膜红外真空装置的上加热区机构，其特征在于：所述的上加热区底座为方形框架，所述的上加热区底座的两相对侧面分别设有卡槽，所述的上加热区底座的内侧底部两端分别设有上端带有齿状的支撑块，所述的支撑块上开设有多个通孔。
4.根据权利要求1所述的一种可调化合物蒸发镀膜红外真空装置的上加热区机构，其特征在于：优选地，所述的光轴通过螺纹连接连接槽固定在升降底板上。
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