[实用新型]反应腔室以及化学气相淀积机台

权利要求书

1.一种反应腔室，包括腔体，用于承载衬底并对衬底加热的加热器，以及套设于所述加热器外侧的固定环；其特征在于，所述固定环包括内环和外环，所述外环用于固定所述加热器上的衬底，所述内环填充所述外环和所述衬底之间的缝隙。

2.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述内环紧贴所述外环的内侧设置。

3.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述外环的表面高度高于所述加热器的表面高度。

4.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述内环的表面高度不低于所述加热器的表面高度。

5.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述加热器的表面具有支撑件，用于支撑所述衬底。

6.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述加热器的外侧具有对应所述固定环的凹陷部，用于承载所述固定环。

7.如权利要求6所述的反应腔室，其特征在于，所述凹陷部具有粗糙表面。

8.一种化学气相淀积机台，其特征在于，包括

如权利要求1-7任意一项所述的反应腔室；以及

喷淋头，位于所述腔体内部，用于将反应气体通入所述腔体中。

9.如权利要求8所述的化学气相淀积机台，其特征在于，所述喷淋头位于所述腔体的顶部，且与所述加热器相对设置。

10.如权利要求8所述的化学气相淀积机台，其特征在于，所述化学气相淀积机台为金属有机化合物化学气相淀积机台。