[实用新型]一种等离子体刻蚀机有效
| 申请号： | 201520127847.6 | 申请日： | 2015-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN204391038U | 公开（公告）日： | 2015-06-10 |
| 发明（设计）人： | 缪国芳;王志宝;谢贤清 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 陆金星 |
| 地址： | 215129 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 | ||
1.一种等离子体刻蚀机，包括线圈支架和电感线圈，其特征在于：所述线圈支架包括上固定环（1）、下固定环（2）、设于上固定环（1）与下固定环（2）之间的至少3根支撑杆（3）；
所述支撑杆（3）的外侧壁上设有线圈槽（5），使电感线圈沿着线圈槽螺旋缠绕于支架之上；
所述支撑杆（3）的外侧还设有配合的盖板（4），使电感线圈夹持于支撑杆和盖板之间。
2.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于：所述支撑杆的数量为3～8根，且支撑杆均匀分布在上固定环与下固定环之间。
3.根据权利要求2所述的等离子体刻蚀机，其特征在于：所述支撑杆的数量为6根。
4.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于：每根支撑杆（3）上设有8～10个线圈槽。
5.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于：所述线圈槽的宽度为6～6.5 mm，深度为7~9 mm。
6.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于：所述上固定环与下固定环为圆环形结构。
7.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于：所述盖板（4）通过螺丝（6）固定连接于支撑杆上。
8.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于：所述上固定环与下固定环均为环氧树脂环。
9.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于：所述线圈支架内设有坩埚，电感线圈与坩埚的间隙为5～7 mm。
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