[实用新型]一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置有效
| 申请号： | 201520127895.5 | 申请日： | 2015-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN204391073U | 公开（公告）日： | 2015-06-10 |
| 发明（设计）人： | 金佐良;乔勇;谢贤清 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;H01L31/18 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 陆金星 |
| 地址： | 215129 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 pecvd 镀膜 设备 自动 上下 装置 | ||
1.一种用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，包括滚轮传送机构(1)、升降电机，升降电机上设有升降台(8)，所述升降台具有升降台上位(5)和升降台下位(10)；
还包括升降台上位等待区域(11)和升降台下位等待区域(9)，所述升降台下位等待区域与所述升降台下位配合并位于升降台下位的侧部；其特征在于：
所述升降台下位处设有行程开关(6)；所述升降台下位等待区域设有定位汽缸(7)；
所述定位汽缸由行程开关控制连接，使定位汽缸具有如下2个工作位：
(1) 当升降台移动至升降台下位时，升降台下压并触发行程开关，行程开关控制定位气缸的活塞下降，石墨框在滚轮传送机构的传输下正常往升降台下位进行传输；
(2) 当升降台向上移动时，行程开关被放开，行程开关控制定位气缸的活塞上升，活塞挡于滚轮传送机构的前方，防止石墨框在滚轮传送机构的传输下超出活塞之外。
2.根据权利要求1所述的用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，其特征在于：所述升降台上位等待区域与所述升降台上位配合并位于升降台上位的侧部。
3.根据权利要求1所述的用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，其特征在于：所述定位汽缸位于所述滚轮传送机构传输方向的前方下部。
4.根据权利要求1所述的用于PECVD镀膜设备的自动上下料装置，其特征在于：所述滚轮传送机构的上方设有停止位传感器和极限位传感器。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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