[实用新型]抛光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及机械加工领域，具体地，涉及抛光装置。

背景技术

抛光是使用物理机械或化学药品降低物体表面粗糙度的工艺。抛光技术主要在精密机械和光学工业中使用。抛光后的工件表面光滑具有良好的反射效果。工件抛光后会减少厚度并容易划伤，必须使用细丝绒布，麂皮，天鹅毛和专用清洗剂清洁表面。

在现有技术中，对于一个面的抛光需要通过人工手动抛光，但是这样不仅耗时也很费力，且效果也不是很好，那么设计一种抛光效果好，方便操作的抛光装置成为一种亟需解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种抛光装置，该抛光装置克服了现有技术中人工抛光不方便的问题，实现了简单操作的自动抛光。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种抛光装置，该装置包括：旋转盘、止挡机构和限位圆环，所述旋转盘能够自转且上表面设置有磨光齿纹，所述限位圆环的下表面与所述旋转盘的上表面紧密接触且跟随所述旋转盘进行偏心转动，待抛光件固定于所述限位圆环中，所述止挡机构止挡所述旋转盘使得所述旋转盘以固定旋转中心进行转动。

优选地，所述止挡机构包括：滑轮、连接件和伸缩杆，多个所述滑轮能够自由旋转地设置于所述连接件上且与所述限位圆环的侧面相配合，所述伸缩杆支撑所述连接件且设置于旋转盘的一侧。

优选地，所述伸缩杆包括：第一段、第二段和固定螺母，所述第一段的侧面上设置有第一通孔，所述第二段的侧面上设置有多个能够与所述第一通孔贯通的第二通孔，所述第一段套接于所述第二段的外表面，所述固定螺母依次贯穿所述第一通孔和第二通孔。

优选地，多个所述第二通孔等间隔的设置于所述二段的侧面上。

优选地，该装置还包括：固定盖，所述固定盖铰接于所述限位圆环的侧面，且能够将所述待抛光件密封于所述限位圆环中。

优选地，所述限位圆环的直径的两倍小于所述旋转盘的直径。

优选地，所述限位圆环的圆心与所述旋转盘的圆心的距离大于所述限位圆环的半径。

优选地，在所述旋转盘的旋转方向上依次设置所述限位圆环和止挡机构。

通过上述实施方式，本实用新型的旋转盘旋转带动限位圆环旋转，限位圆环中固定待抛光件，待抛光件随着限位圆环转动的同时，下表面还被旋转盘的磨光齿纹磨光，从而实现待抛光件的抛光，当然，这需要限位圆环和旋转盘偏心旋转运动，并且止挡机构止挡限位圆环，避免限位圆环自身不旋转而直接随着旋转盘旋转。

本实用新型的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是说明本实用新型的抛光装置的具体实施方式的结构示意图。

附图标记说明

1旋转盘2限位圆环

3滑轮4连接件

5伸缩杆6固定螺母。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指如图1所示的上下左右。“内、外”是指具体轮廓上的内与外。“远、近”是指相对于某个部件的远与近。

本实用新型提供一种抛光装置，该装置包括：旋转盘1、止挡机构和限位圆环2，所述旋转盘1能够自转且上表面设置有磨光齿纹，所述限位圆环2设置于所述旋转盘1的上表面且跟随所述旋转盘1进行偏心转动，待抛光件固定于所述限位圆环2中，所述止挡机构止挡所述旋转盘1使得所述旋转盘1以固定旋转中心进行转动。

通过上述实施方式，本实用新型的旋转盘1旋转带动限位圆环2旋转，限位圆环2中固定待抛光件，待抛光件随着限位圆环2转动的同时，下表面还被旋转盘1的磨光齿纹磨光，从而实现待抛光件的抛光，当然，这需要限位圆环2和旋转盘1偏心旋转运动，并且止挡机构止挡限位圆环2，避免限位圆环自身不旋转而直接随着旋转盘旋转，在上述的实施方式中，可以实现待抛光件的抛光且效果明显容易操作。

以下结合附图1对本实用新型进行进一步的说明，在本实用新型中，止挡结构可以为下述的结构，当然，只要可以实现止挡限位圆环2转动都属于本实用新型的保护范围之内。