[实用新型]端面研磨装置有效
申请号: | 201520139013.7 | 申请日: | 2015-03-12 |
公开(公告)号: | CN204487342U | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 朱英魁;张健;肖鹏;董钢 | 申请(专利权)人: | 唐山钢铁集团有限责任公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/30 |
代理公司: | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人: | 刘伟 |
地址: | 063016 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 端面 研磨 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及机加工零件端面加工装置,尤其涉及一种端面研磨装置。
背景技术
一钢轧厂扇形段连铸辊用旋转接头全部外购,年消耗约360万元左右。旋转接头作为转动部件在各类机械设备中使用广泛。在连铸冷却系统中,向支撑辊和驱动辊输送冷却水进行冷却时要靠旋转接头连接旋转的辊子和不动的冷却水管管道。旋转接头的好坏直接影响连铸辊的冷却效果。旋转接头泄漏造成连铸辊及轴承冷却不良,补充循环冷却水易使水质变坏,加剧旋转接头磨损存在恶性循环的环境中,影响连铸质量,通过对具有渗漏问题旋转接头进行拆解,发现存在锈蚀卡滞、压簧失效、机械密封失效、氮化硅密封环严重磨损等问题,为了确保旋转结构的密封,除了更换相应构件以外,对于一些氮化硅密封环需要进行重新研磨,保证氮化硅片两面的粗糙度和平整度复合密封要求,现有的修复方式是通过手工研磨修复,一方面修复质量差,另外一方面,修复周期较长,劳动强度大。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种端面研磨装置,将氮化硅片置于辊套内,由主轴施力压紧辊套,主轴带动研磨盘相对于研磨台相对转动,在转动同时,辊套相对于对应限位轮组内的三个限位轮发生滚动,充分研磨氮化硅片的两个表面,在研磨的同时可以向辊套内注入研磨剂,研磨后的氮化硅片粗糙度值达到0.8微米以上,平面度在0.01毫米范围内,产品质量得到了可靠的技术保证,有效地解决了采用手工研磨旋转接头密封不严、产品质量不稳定的缺点。
为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:一种端面研磨装置,包括竖向设置的主轴、安装在主轴下端的研磨盘、卡装在研磨盘下表面上的辊套和设于研磨盘正下方的研磨台,所述研磨盘下表面上设置三套辊套,三套辊套相对于主轴的轴线均匀布置。
所述研磨盘下表面上设有绕主轴的轴线均匀布置的三组限位轮组,每组限位轮组包括三套可围成等边三角形的限位轮,限位轮套装在固定设于研磨盘下表面上的销轴上,所述辊套外径等于同时与三套限位轮内侧相切的圆形直径。
所述研磨盘借助于螺栓固定安装在主轴下端。
所述辊套为圆环状结构。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于:将氮化硅片置于辊套内,由主轴施力压紧辊套,主轴带动研磨盘相对于研磨台相对转动,在转动同时,辊套相对于对应限位轮组内的三个限位轮发生滚动,充分研磨氮化硅片的两个表面,在研磨的同时可以向辊套内注入研磨剂,研磨后的氮化硅片粗糙度值达到0.8微米以上,平面度在0.01毫米范围内,产品质量得到了可靠的技术保证,有效地解决了采用手工研磨旋转接头密封不严、产品质量不稳定的缺点。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图;
图2是研磨台结构示意图;
图3是辊套和研磨盘安装结构示意图;
在附图中:1、研磨盘;2、研磨台;3、限位轮;4、辊套;5、销轴;6、主轴。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
为了解决现有旋转结构修复过程中氮化硅片手工研磨质量差,效率低的问题,本实用新型提供一种如图1-3所示的端面研磨装置,包括竖向设置的主轴6、安装在主轴6下端的研磨盘1、卡装在研磨盘1下表面上的辊套4和设于研磨盘1正下方的研磨台2,所述研磨盘1下表面上设置三套辊套4,三套辊套4相对于主轴6的轴线均匀布置;所述研磨盘1下表面上设有绕主轴6的轴线均匀布置的三组限位轮组,每组限位轮组包括三套可围成等边三角形的限位轮3,限位轮3套装在固定设于研磨盘1下表面上的销轴5上,所述辊套4外径等于同时与三套限位轮3内侧相切的圆形直径;所述研磨盘1借助于螺栓固定安装在主轴6下端;所述辊套4为圆环状结构。
在具体应用过程中,本实用新型还可以配套安装用于驱动研磨台2水平往复运动的驱动机构,可以使用液压缸驱动主轴上下运动,在研磨之前,液压缸驱动主轴上升,将辊套按照与三组限位轮组的位置摆放在研磨台2上,并将待研磨的氮化硅片置于辊套4内,此时下降主轴和研磨盘,使研磨盘压紧辊套,辊套位于对应的限位轮之间,同时驱动主轴旋转,研磨台水平往复运动,主轴带动研磨盘相对于研磨台相对转动,在转动同时,辊套相对于对应限位轮组内的三个限位轮发生滚动,充分研磨氮化硅片的两个表面,在研磨的同时可以向辊套内注入研磨剂,研磨后的氮化硅片粗糙度值达到0.8微米以上,平面度在0.01毫米范围内,产品质量得到了可靠的技术保证,有效地解决了采用手工研磨旋转接头密封不严、产品质量不稳定的缺点。
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