[实用新型]一种新型叠片式卷绕薄膜电容器有效

专利信息
申请号: 201520143881.2 申请日: 2015-03-15
公开(公告)号: CN204407188U 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: 谢志懋;王占东 申请(专利权)人: 佛山市南海区欣源电子有限公司;广东欣源智能电子有限公司
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33;H01G4/32;H01G4/06
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 叠片式 卷绕 薄膜 电容器
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及电容器的改进,具体涉及一种新型叠片式卷绕薄膜电容器。

背景技术

薄膜电容器是电容器中的一种,它是一种性能优越的电容器,主要具有以下特征:无极性、绝缘电阻高、频率响应宽广、介质损耗小。由于薄膜电容器具有体积小,容量大的特点,所以用途广泛。

       薄膜电容器现在主要是用金属化薄膜卷绕制作。金属化薄膜是在薄膜上镀一层金属镀层制作而成,金属镀层作为电极使用。使用金属化薄膜,减少了电容器的体积,容易做出体积小,容量大的电容器。

     薄膜电容器从加工方式上可以分为卷绕式和叠片式两种,卷绕式是将金属化薄膜卷绕加工而成,具有加工容易的优点,但体积偏大。叠片式是将金属化薄膜层叠加工而成,叠片式结构形成一层层小的平板电容器相并联的状态,具有低损耗、充放电能力强的优点,但是叠片电容器也存在自愈性能差的弊端。

    薄膜电容器的微型化,表面装配化是当今的主要发展趋势和技术壁垒。随着科技的发展,设备对表面装配的元器件的微型化提出的要求越来越高,为了在更小的体积上做出合格的电容器,薄膜电容器的绝缘介质层越来越薄,市场上已经出现了小于3μm的薄膜,对生产设备的要求也越来越高,但还是不能完全满足微型化的要求。

发明内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足,提供一种新型叠片式卷绕薄膜电容器。

  实现上述目的的技术方案为一种新型叠片式卷绕薄膜电容器,一种新型叠片式卷绕薄膜电容器,包括有绝缘介质层1、金属镀层2和绝缘漆层4,所述的绝缘介质层1正反两面铺贴有金属镀层2,绝缘介质层1的左侧或右侧其中一侧设有留边3不铺贴金属镀层2,所述的金属镀层2的外部覆盖有绝缘漆层4,金属镀层2的左侧或右侧其中一侧设有涂漆留边5不覆盖有绝缘漆层4,绝缘介质层1、金属镀层2和绝缘漆层4合成一体,采用卷绕方式来制作成薄膜电容器。

所述的绝缘漆层4厚度为0.5-0.9μm。

所述绝缘介质层1正反两面的留边3各设于左侧或右侧不同的两侧,留边3上覆盖有绝缘漆层4,留边3长度为0.1-1.0mm,所述涂漆留边5长度为0.1-1.0mm。

   利用本实用新型所包括的带有漆层的双面金属化薄膜通过卷绕成长条状的母体电容器芯子,再经过喷金、切块、焊接、模塑等工序制作成一种新型叠片式卷绕薄膜电容器。

本实用新型的有益效果是,由于采用了漆层代替了一部分薄膜作介质,使电容器的体积更小,更容易实现微型化。用金属化薄膜通过卷绕方式来制作叠片电容,使电容具备了薄膜电容器自愈性能好的优点。从而使新型叠片式卷绕薄膜电容器具有了低损耗、充放电能力强、体积小的优点,还改善了电容器的自愈性能,从而使电容器的性能得到最优化。

附图说明

      图1是本实用新型的截面示意图

     图2是本实用新型绝缘介质层1和金属镀层2截面示意图。

上述图中:缘介质层1、金属镀层2、留边3、绝缘漆层4、涂漆留边5。

具体实施方式

      如图1和图2所示,实现上述目的的技术方案为一种新型叠片式卷绕薄膜电容器,一种新型叠片式卷绕薄膜电容器,包括有绝缘介质层1、金属镀层2和绝缘漆层4,所述的绝缘介质层1正反两面铺贴有金属镀层2,绝缘介质层1的左侧或右侧其中一侧设有留边3不铺贴金属镀层2,所述的金属镀层2的外部覆盖有绝缘漆层4,金属镀层2的左侧或右侧其中一侧设有涂漆留边5不覆盖有绝缘漆层4,绝缘介质层1、金属镀层2和绝缘漆层4合成一体,采用卷绕方式来制作成薄膜电容器。

所述的绝缘漆层4厚度为0.5-0.9μm。

所述绝缘介质层1正反两面的留边3各设于左侧或右侧不同的两侧,留边3上覆盖有绝缘漆层4,留边3长度为0.1-1.0mm,所述涂漆留边5长度为0.1-1.0mm。

   利用本实用新型所包括的带有漆层的双面金属化薄膜通过卷绕成长条状的母体电容器芯子,再经过喷金、切块、焊接、模塑等工序制作成一种新型叠片式卷绕薄膜电容器。

本实用新型的有益效果是,由于采用了漆层代替了一部分薄膜作介质,使电容器的体积更小,更容易实现微型化。用金属化薄膜通过卷绕方式来制作叠片电容,使电容具备了薄膜电容器自愈性能好的优点。从而使新型叠片式卷绕薄膜电容器具有了低损耗、充放电能力强、体积小的优点,还改善了电容器的自愈性能,从而使电容器的性能得到最优化。

上述技术方案仅体现了本实用新型技术方案的优选技术方案,本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本实用新型的原理,属于本实用新型的保护范围之内。

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