[实用新型]磁控溅射镀膜设备

权利要求书

1.一种磁控溅射镀膜设备，包括壳体，其特征在于，还包括除尘装置，所述除尘装置包括吸盘(2)、除尘磨头(1)、干泵及用于带动所述吸盘(2)和所述除尘磨头(1)沿靶材非溅射区域(10)长度方向移动的除尘移动装置，所述除尘磨头(1)安装在所述吸盘(2)内腔，且顶端高于所述吸盘(2)顶端，所述吸盘(2)内腔与所述干泵吸口连通，所述吸盘(2)、所述除尘磨头(1)及所述除尘移动装置均安装在所述壳体的腔室(11)内。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述除尘移动装置包括伸缩装置、支撑臂、滑动件及与所述滑动件滑动连接的导轨，所述导轨沿靶材非溅射区域(10)长度方向设置，所述支撑臂一端与所述吸盘(2)固定连接，另一端与所述滑动件固定连接，所述伸缩装置的伸缩端与所述滑动件连接，且用于带动所述滑动件在导轨上移动，所述滑动件和所述导轨一者上设有滑槽，另一者上设有位于所述滑槽内的限位块。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述伸缩装置为气缸。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，还包括弹性限位件(3)，所述弹性限位件(3)一端与所述吸盘(2)固定，另一端与所述除尘磨头(1)下表面固定，所述除尘装置在工作时，所述弹性限位件(3)处于压缩状态。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述除尘磨头(1)为砂纸。

6.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述除尘移动装置包括移动杆(4)及用于带动所述移动杆(4)沿靶材非溅射区域(10)长度方向移动的滑轨气缸(5)，所述移动杆(4)一端与所述滑轨气缸(5)连接，另一端与所述吸盘(2)连接。

7.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述干泵为所述磁控溅射镀膜设备主体上的泵组(7)。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述干泵通过波纹管(8)与所述吸盘(2)内部腔体连通。