[实用新型]光学元件

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种光学元件，是配置在固体摄像元件前面的光学元件，特别是安装于收纳固体摄像元件的包装的前面、对固体摄像元件进行保护并且用作透光窗的防护玻璃、用于固体摄像元件的视见度修正的近红外线截止滤光片等光学元件。

背景技术

近些年，内装有CCD、CMOS等固体摄像元件的摄像组件被用于手机、便携式信息终端机器等。这样的摄像组件具备收纳固体摄像元件的陶瓷制、树脂制的斗形包装和被紫外线固化型粘合剂固附在包装的周缘部并且对固体摄像元件进行密封的防护玻璃。

另外，一般而言，因为固体摄像元件从近紫外线区域到近红外线区域具有分光灵敏度，所以具备阻断入射光的近红外部分并按接近人的视见度的方式进行修正的近红外线截止滤光片的摄像组件也供实际使用。为了缩小摄像组件整体的尺寸，还提出了将防护玻璃和近红外线截止滤光片的功能复合化的防护玻璃(例如，专利文献1)。

另外，如果将这样的防护玻璃等光学部件配置在固体摄像元件的前面(即朝向固体摄像元件的光的光程中)，则防护玻璃的侧面等反射的光会入射到固体摄像元件的摄像面，并由此引发出现反射光斑、重影等问题，所以还提出在防护玻璃和固体摄像元件之间设置遮光板，截断造成重影等问题的光的光程(例如专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2011－055726号；专利文献2：日本特开2006－141726号公报。

专利文献2中记载的遮光板藉由将Cr(铬)等黑色金属蒸镀在防护玻璃上，与防护玻璃一体形成。作为将Cr蒸镀在防护玻璃上的方法，可以使用所谓的光刻法，经过(1)在玻璃基板上蒸镀Cr的工序、(2)抗蚀剂图案形成工序、(3)Cr的蚀刻工序(图案化工序)、(4)抗蚀剂剥离工序，可以在玻璃基板上形成所需要的遮光板。

但是，像这样地通过蚀刻形成遮光板，如果想要在玻璃基板上无蚀刻残留物、形成边缘齐整的遮光板，则在上述(3)Cr的蚀刻工序(图案化工序)中必须将玻璃基板整体比较长时间地浸渍在蚀刻液中，但蚀刻液不仅蚀刻Cr，也蚀刻玻璃基板的表面，从而存在导致粗面化的问题。如果玻璃基板的表面粗面化，则朝向固体摄像元件的光在玻璃基板的表面散乱，会出现透过率降低、产生反射光斑、析像度降低之类的问题。

实用新型内容

针对上述现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供不使玻璃基板的表面粗面化、形成了边缘齐整的遮光板(遮光部)的光学元件。

为了实现上述目的，本实用新型的光学元件是内装有固体摄像元件的摄像装置中使用的光学元件，包括：正反面分别为朝向固体摄像元件的光入射的入射面和入射到该入射面的光透过而朝向固体摄像元件出射的出射面的透明基板，覆盖在入射面以及出射面至少一面上的蚀刻阻挡层，在透明基板的中心部形成的能够透过光的一部分的透光部，以及在所述蚀刻阻挡层上形成的呈框状包围在透光部外周的能够遮住光的一部分的遮光部。

根据这样的构成，在透明基板上形成蚀刻阻挡层，在通过光刻法形成遮光部的情况下，由蚀刻阻挡层阻止蚀刻，透明基板的表面不会被蚀刻液蚀刻。因此，透明基板的表面不会粗面化，能够防止入射到透明基板表面的光的散乱，使固体摄像元件得到析像度高的图像。另外，因为能够通过蚀刻阻挡层确实地阻止蚀刻，所以能够将光学元件整体比较长时间地浸渍在蚀刻液中，形成无蚀刻残留、边缘齐整的遮光部。

另外，光学元件可以进一步具有至少覆盖透光部的功能膜。在该情况下，优选功能膜是具备防反射、切断红外线、切断紫外线中的至少1种功能的光学薄膜。

另外，功能膜优选为从透明基板顺次层叠Al₂O₃层、ZrO₂层、MgF₂层顺次层叠而成的防反射膜。根据这样的构成，能够抑制入射到光学元件的表面的光的反射，所以在固体摄像元件中光的导入效率升高。

另外，蚀刻阻挡层优选由SiO₂、Al₂O₃或ZrO₂的薄膜形成。

另外，在将光的中心波长设定为λ时，优选蚀刻阻挡层的光学膜厚为λ/2。根据这样的构成，蚀刻阻挡层不会影响光学元件的光学性能，另外在光学元件的表面形成功能膜的情况下，容易进行膜设计。

另外，所述蚀刻阻挡层的物理膜厚为透明基板的板厚的0.3～200.0ppm。根据这样的构成，能够抑制蚀刻阻挡层的膜应力导致的透明基板翘曲。