[实用新型]激光测量核孔膜均匀度的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种核孔膜均匀度的测量装置，可应用到核探测技术以及核孔膜生产过程中在线检验和成品检验。

背景技术

核孔膜，又称作核微孔膜或重离子微孔膜，它是利用重离子在绝缘物质薄膜上打孔然后化学蚀刻扩孔而成。对于核孔膜的均匀度检测有着重要意义：一方面核孔膜作为固体径迹探测器，可以真实记录束流的离子数量和位置信息，常用作均匀度探测器的校准。离子在不同位置上的分布，对于束流的扫描品质有着重要意义。另一方面，核孔膜本身可以作为滤膜，加工成为产品。而滤膜产品质量一般要求核孔膜均匀度达到一定的要求，在线生产和成品检验过程中常用到核孔膜均匀度的检验。

目前，常见的方法是用光学显微镜或电子显微镜人工统计不同位置的视野下的孔数目，从而得到核孔膜均匀度。有人提出了计算机软件分析照片自动数孔的方法，但是这种方法对照片清晰度和对比度等要求较高，常统计带来较大的误差。也有人提出放射元素能谱方法，但是这种方法的位置点的探测精度、探测面积大小很难控制，而且容易受空气层的影响。因此，人们需要一种精准度更高、位置更灵敏和自动化程度更高的方法。

发明内容

本实用新型的目的在于避免现有技术的不足之处而提供提出一种激光测量核孔膜均匀度的装置。使得核孔膜均匀度测量精确度更高、位置更灵敏和自动化程度更高。

本实用新型的又一目的在于一种激光测量核孔膜均匀度的装置。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：一种激光测量核孔膜均匀度的装置，其主要特点在于包括有支架，支架包括有水平支架和竖直支架，在竖直支架的上端设有激光器，在竖直支架的中部设有二维平移台，其二维平移台的台面为透明板：在水平支架上设有光探测器；激光器与光探测器在一个中心线上。

所述的激光测量核孔膜均匀度的装置，所述的二维平移台扫描方式为沿着水平两个方向扫描，或只沿着某一方向线扫描。

所述的激光测量核孔膜均匀度的装置，所述的二维平移台平移方式为手动模式或自动模式。

所述的激光测量核孔膜均匀度的装置，所述的激光器发出的激光波长范围为300-1100 nm。

所述的激光测量核孔膜均匀度的装置，所述的激光束斑形状为圆形和方形，束斑面积的调整范围为1 mm²-300 mm²。

本实用新型的有益效果是：采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息，可以根据不同的扫描方式，来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式，可以通过计算机编程，自动的进行获取，从而迅速得到样品的均匀度信息。与其他方法相比，激光光源稳定，自动化程度高，测试更为精准。

附图说明：

图1 激光测量核孔膜均匀度示意图。

具体实施方式

以下结合实施例对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。下面以具体实施例，对本实用新型的内容进行详细的说明。

实施例1：见图1，一种激光测量核孔膜均匀度的装置，包括有支架1，支架1包括有水平支架1-1和竖直支架1-2，在竖直支架1-2的上端设有激光器2，在竖直支架1-2的中部设有二维平移台3，其二维平移台3的位移台面为透明板：在水平支架1-1上设有光探测器4；激光器2与光探测器4在一个中心线上。

所述的二维平移台3扫描方式为沿着水平两个方向扫描，或只沿着某一方向线扫描。

二维平移台3平移方式为手动模式或自动模式。

所述的激光器2发出的激光波长范围为300-1100 nm。

所述的激光束斑形状为圆形和方形，束斑面积的调整范围为1 mm²-300 mm²。

使用时，将核孔膜5放置在二维平移台3的位移台面上，激光器2的一束激光穿透核孔膜5，光探测器4测量并记录该入射位置点的光吸收率或透射率；再通过不断移动二维平移台3，获得核孔膜5其他位置点的光吸收率或透射率；由于孔数目和光吸收率或透射率成一定的线性关系，从而推导出不同位置点的孔数目差异，最终确定所测试核孔膜5样品的均匀度。