[实用新型]脑平衡定位仪

说明书

技术领域

本实用新型属于医疗器械技术领域，特别是涉及一种脑平衡定位仪。

背景技术

神经科学研究中，在体研究是当前热门的技术，有时需要在较少损伤中枢神经系统的情况下，把刺激电极、记录电极、损毁电极、给药导管等有目的地安置在颅脑的特定位置实施相关干预，这种定向安置的技术称为脑立体定位术。这是在脑内进行电刺激、记录细胞电活动、微量注射给药、定点毁损脑组织制备疾病模型等实验时不可缺少的实验步骤。因此实践中需要提供一种脑平衡定位仪，给颅脑提供一种平衡定位，来完成刺激电极、记录电极、损毁电极、给药导管等有目的地安置在颅脑的特定位置并实施相关干预。

发明内容

针对上述现有技术的缺陷，本实用新型提供一种脑平衡定位仪，给颅脑提供一种平衡定位，来完成刺激电极、记录电极、损毁电极、给药导管等有目的地安置在颅脑的特定位置并实施相关干预。

为实现上述目的，本实用新型所采取的技术方案是：

一种脑平衡定位仪，包括底板，所述底板上设置有两条沿纵向设置有水平滑道，所述水平滑道上设置有可以在水平滑道上前后移动的立架，两个所述立架的内侧设置有垂直滑道，所述垂直滑道上设置有可以在垂直滑道上下移动的水平架，所述水平架上设置有可以在水平架上左右移动的吊杆，所述吊杆的底端设置有用于兜住颅脑的吊兜。

作为对上述技术方案的改进，所述水平滑道的一个侧面设置有水平长槽，所述水平长槽内设置有底部顶丝，所述底部顶丝穿过水平滑道的一侧，与立架的侧面相抵，当所述立架在水平滑道上移动到位时，所述的底部顶丝与立架相顶，使立架在水平滑道固定。

作为对上述技术方案的改进，所述垂直滑道的一个侧面设置有垂直长槽，所述水平长槽内设置有顶部顶丝，所述顶部顶丝穿过垂直滑道的一侧，与水平架的侧面相抵，当所述水平架在垂直滑道上移动到位时，所述顶部顶丝与水平架相顶，使水平架在垂直滑道内固定。

作为对上述技术方案的改进，所述底板的底端设置有行走轮。如此设计，可以实现脑平衡定位仪的移动。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点和积极效果：

本实用新型的脑平衡定位仪，可以通过调节立架在纵向的水平位置，通过调节水平架在立架上的上下位置，通过调节吊杆在水平架上的左右位置，可以实现吊兜的立体调整，给颅脑提供一种平衡定位位置，来完成刺激电极、记录电极、损毁电极、给药导管等有目的地安置在颅脑的特定位置并实施相关干预。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的结构示意图。

其中：1—底板；2—水平滑道；3—立架；4—垂直滑道；5—水平架；6—吊杆；7—吊兜；8—底部顶丝；9—顶部顶丝；10—行走轮。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

实施例一

如图1所示，本实用新型的脑平衡定位仪，包括底板1，所述底板1上设置有两条沿纵向设置有水平滑道2，所述水平滑道2上设置有可以在水平滑道上前后移动的立架3，两个所述立架3的内侧设置有垂直滑道4，所述垂直滑道4上设置有可以在垂直滑道4上下移动的水平架5，所述水平架5上设置有可以在水平架5上左右移动的吊杆6，所述吊杆6的底端设置有用于兜住颅脑的吊兜7。

所述水平滑道2的一个侧面设置有水平长槽，所述水平长槽内设置有底部顶丝8，所述底部顶丝8穿过水平滑道2的一侧，与立架3的侧面相抵，当所述立架3在水平滑道2上移动到位时，所述的底部顶丝8与立架3相顶，使立架3在水平滑道2固定。

所述垂直滑道4的一个侧面设置有垂直长槽，所述水平长槽内设置有顶部顶丝9，所述顶部顶丝9穿过垂直滑道4的一侧，与水平架5的侧面相抵，当所述水平架5在垂直滑道4上移动到位时，所述顶部顶丝9与水平架相顶，使水平架5在垂直滑道4内固定。

所述底板1的底端设置有行走轮10。如此设计，可以实现脑平衡定位仪的移动。