[实用新型]一种椎间融合器有效

专利信息
申请号: 201520173110.8 申请日: 2015-03-25
公开(公告)号: CN204501118U 公开(公告)日: 2015-07-29
发明(设计)人: 赵全明;杨惠林;刘忠堂 申请(专利权)人: 无锡市人民医院
主分类号: A61F2/44 分类号: A61F2/44;A61L27/32;A61L27/56
代理公司: 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 代理人: 高之波;邬玥
地址: 214023 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 融合
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及椎间融合器,尤其涉及一种更易与骨组织生长成一体的椎间融合器。

背景技术

脊拄融合术最初由Hibbs等在1911年报道,之后Mercer于1936年提出椎体间融合的理论后,脊柱融合手术得到了很快的发展,20世纪80年代开始应用椎间融合器加植骨融合治疗下腰痛并取得了很好的疗效。从此,脊柱融合术从单纯的植骨技术发展到了融合器融合。

脊柱融合术是目前临床上最常用的手术方式之一,是治疗脊柱结核、感染、畸形、退行性病变以及椎间盘损伤等脊柱疾患的有效手段。它主要通过在椎间隙植入椎间融合器,同时植入大量的自体骨或同种异体骨,从而实现椎体间融合,达到稳定脊柱的目的。

目前的脊柱融合器植入椎间隙主要起支撑作用,不能诱导成骨,因此往往需要在融合器中植入自体骨或同种异体骨,以达到骨性融合的目的,自体骨需要从患者的身体内取出,往往会给患者身心带来很大的痛苦,而同种异体骨不但价格昂贵,而且融合效果也不理想,经常出现腰椎术后假关节形成等腰椎不融合的情况。

羟基磷灰石(Hydroxyapat ite,HA)被认为是目前生物相容性最好的生物陶瓷之一,这主要是由于HA与人体骨组织中的无机成分相似,植入人体后在短期内能与骨骼形成骨性结合并具有诱导成骨作用,因此在临床上被广泛作为生物活性涂层材料,但是到目前为止,还没有关于羟基磷灰石涂层融合器的报道。

实用新型内容

本实用新型的目的是在于提供一种椎间融合器,解决上述现有技术问题中的一个或者多个。

根据本实用新型的一个方面,提供一种椎间融合器,包括方柱形的融合器本体,融合器本体的一对相背的表面均设有多孔结构,融合器本体的内部设有三维多孔骨组织工程支架结构,融合器本体表面涂有羟基磷灰石涂层,多孔结构和三维多孔骨组织工程支架结构相互连通,与多孔结构所在的表面相垂直的棱设有倒齿。

在一些实施方式中,三维多孔骨组织工程支架结构的孔隙率为67%。由此,能较好的适应细胞生长、营养流的输送与代谢产物的排出。

本实用新型通过融合器表面羟基磷灰石涂层和内部三维多孔骨组织工程支架结构的诱导作用,融合器与骨组织间通过“生长”成为一体,不但克服了现有技术中需要大量植骨缺点,而且融合器与周围骨组织通过“生长”成为一体,有效避免了脊柱融合术后不融合或假关节形成等并发症的发生,具有很好的临床使用效果。此外,在棱上设置有倒齿,能稳定地设置在椎间,不会出现沉降的现象。

附图说明

图1是本实用新型一种椎间融合器的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图说明,对本实用新型作进一步详细说明。

如图1所示,一种椎间融合器,包括方柱形的融合器本体1,融合器本体1的一对相背的表面均开设有多孔结构2,具体来说融合器本体1的一个面开设有多孔结构2,另一个与之相背的面也开设有多孔结构2。多孔结构2为不规则的孔。融合器本体1的内部一体成型有三维多孔骨组织工程支架结构3,三维多孔骨组织工程支架结构3内部有相连通的高孔隙率多孔结构,能适应细胞生长、营养流的输送与代谢产物的排出,本实施例中,三维多孔骨组织工程支架结构3的孔隙率为67%,由此能较好的适应细胞生长、营养流的输送与代谢产物的排出。融合器本体1表面涂有羟基磷灰石涂层4,在本实施例中,在融合器本体1设有多孔结构2的表面涂有羟基磷灰石涂层4。多孔结构2和三维多孔骨组织工程支架结构3相互连通,融合器本体1一表面的多孔结构2通过三维多孔骨组织工程支架结构3与融合器本体1另一表面的多孔结构2相连通。此外,与多孔结构2所在的表面相垂直的融合器本体1的棱一体成型有倒齿5,倒齿5呈锯齿状,且以与多孔结构2所在的表面相垂直的直线排列,由此,能稳定地设置在椎间,不会出现沉降的现象。

综上所述,本实用新型通过融合器表面羟基磷灰石涂层和内部三维多孔骨组织工程支架结构的诱导作用,融合器与骨组织间通过“生长”成为一体,不但克服了现有技术中需要大量植骨缺点,而且融合器与周围骨组织通过“生长”成为一体,有效避免了脊柱融合术后不融合或假关节形成等并发症的发生,具有很好的临床使用效果。此外,在棱上设置有倒齿,能稳定地设置在椎间,不会出现沉降的现象。

以上所述仅是本实用新型的一种实施方式,应当指出,对于本领域普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干相似的变形和改进,这些也应视为本实用新型的保护范围之内。

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