[实用新型]一种抛光机的下抛光盘

说明书

技术领域

本实用新型涉及研磨机或抛光机的结构，具体涉及一种抛光机的下抛光盘。

背景技术

用于蓝宝石衬底材料抛光机的下抛光盘，由于在抛光过程中会产生大量的热，温度的变化必然会导致抛光盘发生形变，进而影响加工质量，因此必须严格控制抛光盘的温度。近年来蓝宝石衬底晶片的尺寸趋向大直径化，对蓝宝石晶片的质量要求也越来越严，对于用来进行蓝宝石晶片抛光加工的抛光设备，必须严格控制抛盘的形变。

此前生产的双面抛光机的抛盘采用整体式结构，没有进行专门温度控制的装置，抛光加工过程中所产生的热量主要靠抛光液带走，属于被动式冷却，抛盘温度的变化不可控。而蓝宝石衬底材料的应用行业对蓝宝石片的品质要求比较高，对上下抛光盘进行精密温度控制是必需的，因此必须采用新的下盘结构，以便对抛盘进行冷却，达到温度精确控制的目的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种抛光机的下抛光盘。

为实现上述目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种抛光机的下抛光盘，包括下盘工作盘，所述下盘工作盘的下方设有下盘基盘，所述下盘基盘与所述下盘工作盘之间形成冷却腔，在下盘基盘上设有进水口和出水口，分别与所述冷却腔连通，所述下盘基盘与所述下盘工作盘之间外圈设有外圈密封圈，内圈设有内圈密封圈，所述下盘基盘的外缘设有排水孔。

进一步的，所述冷却腔为下凹的扇形冷却腔，且有12个，每个下凹的扇形冷却腔设有出水管，所述出水管与所述出水口连通。

进一步的，所述外圈密封圈和所述内圈密封圈外部都设有密封圈槽。

优选的，所述下盘工作盘上设有为出水管进水的让位孔。

进一步的，所述下盘基盘与下盘工作盘由设在分隔筋上的连接螺钉连接。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型的特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1是本实用新型抛光机的下抛光盘的结构示意图；

图2是本实用新型抛光机的下抛光盘的剖视图。

图中标号说明：

1、下盘工作盘，2、外圈密封圈，3、内圈密封圈，4、进水口，5、出水管，6、连接螺钉，7、排水孔，8、下盘基盘，9、冷却腔，10、让位孔，11、出水口，12、密封圈槽。

具体实施方式

下面将参考附图并结合实施例，来详述本实用新型的结构特点及技术实施过程：

如图1和图2所示，一种抛光机的下抛光盘，包括下盘工作盘1，所述下盘工作盘1的下方设有下盘基盘8，所述下盘基盘8与所述下盘工作盘1之间形成冷却腔9，在下盘基盘8上设有进水口4和出水口11，分别与所述冷却腔9连通，所述下盘基盘8与所述下盘工作盘1之间外圈设有外圈密封圈2，内圈设有内圈密封圈3，所述下盘基盘8的外缘设有排水孔7。

优选的，排水孔7用于长时间停机或维护时排去冷却水。

进一步的，所述冷却腔9为下凹的扇形冷却腔，且有12个，每个下凹的扇形冷却腔设有出水管5，所述出水管5与所述出水口11连通，所述出水管5为了进水水位的提升，保证水充满整个下凹的扇形冷却腔9。

进一步的，所述外圈密封圈2和所述内圈密封圈3外部都设有密封圈槽12。

优选的，所述下盘工作盘1上设有为出水管5进水的让位孔10。

进一步的，所述下盘基盘8与下盘工作盘1由设在分隔筋上的连接螺钉6连接。

本实用新型的原理：