[实用新型]一种位置可调的支撑脚装置有效
| 申请号： | 201520181786.1 | 申请日： | 2015-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN204481013U | 公开（公告）日： | 2015-07-15 |
| 发明（设计）人： | 李广义 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;F16M7/00 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 陶金龙;张磊 |
| 地址： | 100016 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 位置 可调 支撑 装置 | ||
1.一种位置可调的支撑脚装置，其特征在于，包括：
支撑环，沿其圆周设有向上开口的环形滑槽，所述滑槽内固设第一磁性体，所述第一磁性体低于所述滑槽槽口；
若干支撑脚本体，沿所述支撑环圆周设置，所述支撑脚本体为圆柱体，其上表面具有环形晶片支撑面，其下表面固接第二磁性体，所述第二磁性体下端伸入所述滑槽内，并接触所述第一磁性体形成磁性连接，所述支撑面的中心设有圆锥台；
其中，所述第一、第二磁性体之间的极性相反，所述支撑脚本体可通过所述第二磁性体沿所述滑槽移动，所述第二磁性体与所述滑槽之间在槽宽方向留有间隙，以通过所述第二磁性体在所述滑槽的宽度方向内调整其与所述第一磁性体之间的接触位置，来调整所述支撑面与所述支撑环之间的中心距离。
2.根据权利要求1所述的支撑脚装置，其特征在于，所述第一磁性体在所述滑槽内为连续的环形。
3.根据权利要求1所述的支撑脚装置，其特征在于，所述第一磁性体在所述滑槽内为间断的环形。
4.根据权利要求1所述的支撑脚装置，其特征在于，所述第二磁性体为圆柱形或具有与所述滑槽相配合的弧形。
5.根据权利要求1所述的支撑脚装置，其特征在于，所述支撑脚本体的下表面设有槽孔，所述第二磁性体的上端通过镶嵌方式或螺钉连接方式固定在所述槽孔内。
6.根据权利要求1所述的支撑脚装置，其特征在于，所述第二磁性体与所述滑槽之间在槽宽方向留有的间隙距离大于所述第二磁性体下端伸入所述滑槽内的高度距离。
7.根据权利要求6所述的支撑脚装置，其特征在于，所述第二磁性体的下端外周具有倒角。
8.根据权利要求1～7任意一项所述的支撑脚装置，其特征在于，所述磁性体为磁铁。
9.根据权利要求1所述的支撑脚装置，其特征在于，所述支撑面为平面或斜面。
10.根据权利要求1所述的支撑脚装置，其特征在于，所述支撑脚本体的数量为至少三个。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
