[实用新型]成像装置有效
申请号: | 201520193190.3 | 申请日: | 2015-04-01 |
公开(公告)号: | CN204761572U | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | D·费蒂格;R·S·约翰森 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | H04N5/335 | 分类号: | H04N5/335;H04N13/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 刘倜 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 装置 | ||
1.一种成像装置,其特征在于:
所述成像装置具有图像像素阵列,所述图像像素阵列具有以线的形式连续布置的多个相位检测像素,其中所述多个相位检测像素包括:
形成在衬底中并且被第一微透镜覆盖的第一光敏区域和第二光敏区域;以及
形成在所述衬底中并且被第二微透镜覆盖的第三光敏区域和第四光敏区域,其中所述第一微透镜直接毗邻所述第二微透镜,并且其中所述第二光敏区域和第三光敏区域设置在所述第一光敏区域和第四光敏区域之间。
2.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,其中所述第一微透镜具有第一光轴,其中所述第二微透镜具有第二光轴,其中所述第一光敏区域和第二光敏区域偏离所述第一光轴,并且其中所述第三光敏区域和第四光敏区域偏离所述第二光轴。
3.如权利要求2所述的成像装置,其特征在于,还包括形成在所述第二光敏区域和第三光敏区域之上的不透明的遮蔽层,并且其中所述不透明的遮蔽层包括金属。
4.如权利要求3所述的成像装置,其特征在于,其中所述第二光敏区域和第三光敏区域被配置用于在电荷积分期间收集分别来自所述第一光敏区域和第四光敏区域的溢出电荷。
5.如权利要求1所述的成像装置,其特征在于,还包括处理电路,被配置用于基于来自所述第一光敏区域和第二光敏区域的像素信号确定第一相位差信号,以及基于来自所述第一光敏区域和第四光敏区域的像素信号确定第二相位差信号。
6.如权利要求5所述的成像装置,其特征在于,其中所述多个相位检测像素还包括:
形成在所述衬底中并且被第三微透镜覆盖的第五光敏区域和第六光敏区域,其中所述第二微透镜直接设置在所述第一微透镜和第三微透镜之间,并且其中所述处理电路被配置用于基于来自所述第三光敏区域和第六光敏区域的像素信号确定第三相位差信号。
7.一种成像装置,其特征在于:
所述成像装置具有图像像素阵列,所述图像像素阵列具有彼此毗邻的相位检测像素的组,其中所述相位检测像素的组包括:
形成在衬底中并且被微透镜覆盖的第一光敏区域、第二光敏区域、第三光敏区域和第四光敏区域;以及
处理电路,被配置用于基于来自所述第一光敏区域、第二光敏区域、第三光敏区域和第四光敏区域的像素信号确定相位差信号。
8.如权利要求7所述的成像装置,其特征在于,其中所述微透镜具有光轴,并且其中所述第一光敏区域、第二光敏区域、第三光敏区域和第四光敏区域偏离所述光轴。
9.如权利要求7所述的成像装置,其特征在于,还包括与所述相位检测像素的组毗邻的第二组相位检测像素,其中所述第二组相位检测像素包括形成在所述衬底中并且被第二微透镜覆盖的第五光敏区域、第六光敏区域、第七光敏区域和第八光敏区域,并且其中所述相位检测像素的组和所述第二组相位检测像素在所述图像像素阵列中形成2×4子阵列。
10.一种成像装置,其特征在于:
所述成像装置具有图像像素阵列,所述图像像素阵列具有至少一个相位检测像素,其中所述至少一个相位检测像素包括:
形成在衬底中并且被第一微透镜覆盖的第一光敏区域;以及
形成在所述衬底中并且被第二微透镜覆盖的第二光敏区域,其中所述第一微透镜和第二微透镜直接彼此毗邻,并且其中所述衬底具有从所述第一光敏区域延伸到第二光敏区域的没有光敏区域的部分。
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