[实用新型]一种立体画纸有效
申请号: | 201520201295.9 | 申请日: | 2015-04-03 |
公开(公告)号: | CN204676371U | 公开(公告)日: | 2015-09-30 |
发明(设计)人: | 张景亮;连亚楠 | 申请(专利权)人: | 温州芳植生物科技有限公司 |
主分类号: | D21H27/00 | 分类号: | D21H27/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 325016 浙江省温州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 立体 画纸 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种作画工具,尤其是一种立体画纸。
背景技术
传统的画纸包括宣纸、水彩纸、铜版纸,广义上将无纺布、油画画布等非纸质类也归类为画纸。
一般的画纸的局限在于无法很好的体现三维景象,例如中国水墨画一般要通过留白来体现物体之间的关系,而西方油画则通过颜料的堆积来体现物体的凹凸和丰满,不但需要画家具备高超的技艺而且画纸本身相当脆弱,有价值的画作往往需要不菲的保存费用。
部分产品进行了改进,例如中国专利公开了一种凹凸纸板,申请号:201420205946.7,申请日:2014-04-25,所述凹凸纸板包括纸板本体、模体、裱纸层,所述模体设于所述纸板本体上;所述裱纸层覆于所述模体及所述纸板本体上,并与所述模体、纸板本体压合成一体;所述模体是立体的图形或字符。通过上述方式,本实用新型公开的凹凸纸板制备的凸起部位不会下陷消失;制作工艺简单,无需制作凹模与凸模,制作成本较低,提高生产效率的同时节约成本。
该技术方案以及现有的技术方案均存在的缺点是,无法根据作者的构思实现凹凸效果并在出现凹凸效果后在凹凸的画纸上作画。
发明内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供一种凹凸效果可任由画家控制并且画纸表面容易上色作画的画纸。
本实用新型的技术方案为:
一种立体画纸,包括底板、变形层、着色层,其特征在于,所述的底板为硬纸板并位于底层,所述的变形层为橡皮泥块且设在底板的顶部,所述的变形层为整个结构的核心,其作用是通过橡皮泥的立体塑型使得画家可以按照自己的构思构建画面的三维凹凸,所述的着色层紧贴在变形层上,其作用是利于变形层塑造了三维凹凸之后的上色和构图;所述的底板、变形层和着色层的四周连接有塑料封圈,其中底板和着色层与塑料封圈粘合,其作用是利用塑料封圈使得变形层稳稳地固定在底板和着色层之间不会因为塑型而被挤压出去。
具体地,所述的底板采用硬质的PVC板或者硬质的ABS板,其作用是使得整个画纸具有刚性,不容易变形,防止塑型后的画纸变形。
具体地,所述的着色层采用软聚乙烯薄膜,因为软聚乙烯薄膜本体为白色且具有一定的延展性,适合画家使用油性颜料在其上作画。
进一步地,所述的塑料封圈外侧且对应变形层的位置上设有若干辅助孔,所述的辅助孔与变形层相通,所述的辅助孔内设有封塞,其作用是当变形层在塑型时需要排除部分橡皮泥时可通过辅助孔排除,当塑型需要更多的橡皮泥时也可以通过辅助孔注入。
本实用新型的有益效果为:本实用新型结构简单,通过变形层和着色层的配合使得画纸可以呈现出更加逼真的三维效果,而且不同于笔触或者颜料堆积的效果,大大降低了创作三维效果画面的难度和工作量。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图中,1、底板;2、变形层;3、着色层;4、塑料封圈;5、辅助孔。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明:
如图1所示,一种立体画纸,包括底板1、变形层2、着色层3,其特征在于,所述的底板1为硬纸板并位于底层,所述的变形层2为橡皮泥块且设在底板1的顶部,所述的变形层2为整个结构的核心,其作用是通过橡皮泥的立体塑型使得画家可以按照自己的构思构建画面的三维凹凸,所述的着色层3紧贴在变形层2上,其作用是利于变形层塑造了三维凹凸之后的上色和构图;所述的底板1、变形层2和着色层3的四周连接有塑料封圈4,其中底板1和着色层3与塑料封圈4粘合,其作用是利用塑料封圈使得变形层稳稳地固定在底板和着色层之间不会因为塑型而被挤压出去。
所述的底板1采用硬质的PVC板或者硬质的ABS板,其作用是使得整个画纸具有刚性,不容易变形,防止塑型后的画纸变形。
所述的着色层3采用软聚乙烯薄膜,因为软聚乙烯薄膜本体为白色且具有一定的延展性,适合画家使用油性颜料在其上作画。
所述的塑料封圈4外侧且对应变形层2的位置上设有若干辅助孔5,所述的辅助孔5与变形层2相通,所述的辅助孔内设有封塞,其作用是当变形层在塑型时需要排除部分橡皮泥时可通过辅助孔排除,当塑型需要更多的橡皮泥时也可以通过辅助孔注入,辅助孔需要密封时采用封塞堵塞。
上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理和最佳实施例,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。
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