[实用新型]一种提高光利用率的导光板有效
申请号: | 201520230252.3 | 申请日: | 2015-04-07 |
公开(公告)号: | CN204679672U | 公开(公告)日: | 2015-09-30 |
发明(设计)人: | 李飞 | 申请(专利权)人: | 深圳泰一光学科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00;F21V8/00;G02F1/13357 |
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地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 利用率 导光板 | ||
技术领域
本实用新型涉及液晶显示器&TV背光源导光板加工领域,尤其是一种提高光利用率的导光板。
背景技术
目前,在液晶显示器&TV背光源导光板加工领域,为节省背光源中LED的使用数量成本,大多数公司将LED的使用数量降低,因LED使用数量的降低,则LED之间会形成暗区,故传统的方法,是采用设计网点的方案来解决LED入光处的明暗相间问题.采用此传统的方法,设计时困难度很大,且需要多次设计修改才能达到效果.并且依此方案设计的产品,在产品加工过程(印刷)需要很精确的对位,才可以避免入光处的灯影问题;生产加工过程非常困难,且因印刷偏位而导致良率很低。
实用新型内容
现有技术难以满足人们的生产生活需要,针对上述问题,本实用新型旨在提供一种提高光利用率的导光板。
为实现该技术目的,本实用新型采用的技术方案是:一种提高光利用率的导光板,包括导光板本体,所述导光板本体的入光侧设置有V-CUT结构,即在入光侧分布有V型沟槽,所述V型沟槽等间距分布于所述入光侧,所述V型沟槽的角度为60°~90°。
作为本实用新型的优选技术方案:所述V型沟槽的角度由入光侧、出光侧至中间逐渐增大。
作为本实用新型的优选技术方案:背景光源通过所述导光板本体在出光侧的发光角度增加至140°~160°。
作为本实用新型的优选技术方案:所述V型沟槽的深度为导光板厚的三分之一。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:一种提高光利用率的导光板,采用入光侧做V-CUT处理的方法,使光线经过表面为V型沟槽的V-Cut结构时,一部分光线发生折射,增加了导光板出光面视向方向的光线,提高了光能利用率,另一部分被反射回导光板内,减少了光能的损失。本实用新型可以解决导光板印刷时产生灯影的问题,解决背景光源造成灯影的造成的印刷偏位,从而大大提升导光板印刷生产加工良率。
附图说明
图1为本实用新型导光板上入光侧俯视示意图;
图2为本实用新型V型沟槽角度结构示意图;
图3为未经处理导光板与本实用新型导光板光线结构示意图;
其中:导光板的入光侧1;V型沟槽2;背景光源3;未经处理导光板结构4。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅说明书附图1~3,本实用新型实施例中,一种提高光利用率的导光板,包括导光板本体,导光板本体的入光侧1设置有V-CUT结构,即在入光侧1分布有V型沟槽2,V型沟槽2等间距分布于所述入光侧1,所述V型沟槽2的角度为60°~90°。
V型沟槽2的角度由入光侧、出光侧至中间逐渐增大。这样,可以使背光源的光渗透的更远,有利于解决导光板产生的亮度不够的问题。背景光源3通过设有V型沟槽2的导光板本体的发光角度增加至140°~160°。
此外,优选的,V型沟槽的深度为导光板厚的三分之一。
本实用新型中,在背景光源入光侧的导光板边采用V-CUT结构,使光线经过表面为V型沟槽的V-CUT结构时,一部分光线发生折射,增加了导光板出光面视向方向的光线,提高了光能利用率,另一部分被反射回导光板内,减少了光能的损失;此外,还可以使背景光源的经导光板后的发光角度增大,如发光角度由原先为120°,增加到140°-160°,大大提升背景光源间的光线均匀度。本实用新型可以解决导光板印刷时产生灯影的问题,解决背景光源造成灯影的造成的印刷偏位,从而大大提升导光板印刷生产加工良率。
对于本领域技术人员而言,然而本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其它的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同替换和改进,均应包含在本实用新型技术方案的保护范围之内。
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