[实用新型]X射线光栅成像系统有效

专利信息
申请号: 201520243659.X 申请日: 2015-04-21
公开(公告)号: CN204758507U 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 孙天希;孙学鹏;须颖;董友;刘志国 申请(专利权)人: 北京师范大学;天津三英精密仪器有限公司
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20
代理公司: 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 代理人: 苗源;李冬梅
地址: 100875 北京市海淀区新街*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 射线 光栅 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种X射线光栅成像系统,其特征在于,包括:

X射线光源(1);

多毛细管X射线源光栅(2),其入口端设置有所述X射线光源(1),用于会聚所述X射线光源(1)发射的X射线并得到用于照射样品(3)的相干光;

多毛细管X射线相位光栅(4),设置于所述样品(3)之后,用于收集并调制照射所述样品(3)后的X射线产生衍射自成像效应;

多毛细管X射线分析吸收光栅(5),设置于所述多毛细管X射线相位光栅(4)之后,位于所述衍射自成像效应对应的自成像平面位置处,所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)用于收集并处理所述多毛细管X射线相位光栅(4)射出的X射线,将其中的相位信息转化为可识别的光强信息;

X射线探测器(6)设置在所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)之后,用于探测并收集所述样品(3)的信息。

2.根据权利要求1所述的X射线光栅成像系统,其特征在于,还包括:

信息处理装置,与所述X射线探测器(6)连接,用于提取并分析处理所述样品(3)的信息。

3.根据权利要求1所述的X射线光栅成像系统,其特征在于,所述样品(3)放置于所述多毛细管X射线源光栅(2)和多毛细管X射线相位光栅(4)之间,靠近所述多毛细管X射线相位光栅(4)的入口端;所述X射线探测器(6)设置在所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)之后靠近其出口端。

4.根据权利要求3所述的X射线光栅成像系统,其特征在于:

所述多毛细管X射线源光栅(2)沿其长度方向上的外形为圆柱型面段、抛物线型面段或者其它二次曲面段;和/或,

所述多毛细管X射线相位光栅(4)和所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)沿各自长度方向上的外形均为圆柱形面段;其中,所述多毛细管X射线相位光栅(4)入口端和出口端的直径相同;所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)入口端和出口端的直径相同。

5.根据权利要求1至4任一项所述的X射线光栅成像系统,其特征在于,所述多毛细管X射线源光栅(2)、所述多毛细管X射线相位光栅(4)及所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)为多毛细管X射线光栅,由多根硅酸盐或铅玻璃单毛细管拉制而成。

6.根据权利要求5所述的X射线光栅成像系统,其特征在于:

所述多毛细管X射线光栅的光栅周期范围为0.01-30微米,高宽比的范围为5-90000;其中,所述光栅周期为相邻单毛细管的中空通道的中心连线的长度;所述高宽比为所述多毛细管X射线光栅的长度与相应光栅周期的一半的比值;和/或,

所述多毛细管X射线光栅沿垂直于其中心对称轴线的界面的直径范围为1-700毫米,适用X射线的能量范围为0.1-200keV。

7.根据权利要求6所述的X射线光栅成像系统,其特征在于,所述多毛细管X射线源光栅(2)中每根单管的中空内经的直径为w,X射线的波长为λ,所述多毛细管X射线相位光栅(4)的光栅周期为p,则所述多毛细管X射线源光栅(2)和所述多毛细管X射线相位光栅(4)之间的距离L≥wp/λ。

8.根据权利要求7所述的X射线光栅成像系统,其特征在于:

所述多毛细管X射线源光栅(2)的入口焦距F的取值范围为1-20厘米、入口端直径d的取值范围为2-8毫米、出口端直径D的范围为0.2-40厘米、光栅长度h的取值范围为0.1-25厘米;

所述多毛细管X射线相位光栅(4)中,沿光栅水平中心周线方向上的长度为h1的取值范围为0.1-15厘米,入口端和出口端的直径相同且取值范围为0.2-40厘米;

所述多毛细管X射线分析吸收光栅(5)中,沿光栅水平中心周线方向上的长度为h2的取值范围为0.1-10厘米,入口端和出口端直径相同且取值范围为0.2-40厘米。

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