[实用新型]一种硅片清洗设备

权利要求书

1.一种硅片清洗设备，其特征在于，所述硅片清洗设备包括：

清洗机；

放置硅片的水槽，与所述清洗机连接；

将所述硅片由所述水槽转移至所述清洗机的机械手臂，所述机械手臂设置于所述清洗机或所述水槽上，或与所述清洗机以及所述水槽间隔设置。

2.根据权利要求1所述硅片清洗设备，其特征在于，所述硅片清洗设备进一步包括塑料片盒，所述塑料片盒设置于所述水槽中，用于承装所述硅片，所述机械手臂移动所述塑料片盒从而移动所述硅片。

3.根据权利要求2所述硅片清洗设备，其特征在于，所述硅片清洗设备进一步包括不锈钢清洗篮，所述不锈钢清洗篮设置于所述水槽中，用于承装所述塑料片盒，所述机械手臂移动所述不锈钢清洗篮从而移动所述塑料片盒。

4.根据权利要求1所述硅片清洗设备，其特征在于，所述清洗机包括依次设置的纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽和烘干隧道，所述纯水清洗槽远离所述加清洗剂清洗槽的一端连接所述水槽。

5.根据权利要求4所述硅片清洗设备，其特征在于，所述纯水清洗槽包括依次设置的第一纯水清洗槽和第二纯水清洗槽；所述加清洗剂清洗槽包括依次设置的第一加清洗剂清洗槽和第二加清洗剂清洗槽；所述纯水漂洗槽包括依次设置的第一纯水漂洗槽、第二纯水漂洗槽和第三纯水漂洗槽；所述第一纯水清洗槽连接所述水槽，所述第二纯水清洗槽连接所述第一加清洗剂清洗槽，所述第二加清洗剂清洗槽连接所述第一纯水漂洗槽，所述第三纯水漂洗槽连接所述烘干隧道。